| 主权项 |
1.一种水沟盖体结构改良,包含有: 一盖板,上端形成有全面之防滑纹面,下端具有凸 框,在盖板中央开设有透孔,于透孔开口上端边缘 形成有凹缘边,而透孔开口下端则具有两侧斜开口 之盒室,在斜开口之两侧并延伸出补强板; 一活动盖板,可活接贴合于盖板盒室之斜开口上; 一区隔板,可置放于盖板之盒室内。 2.依申请专利范围第1项所述之水沟盖体结构改良, 其中盖板中央透孔上方周缘形成有凸边。 3.依申请专利范围第1项所述之水沟盖体结构改良, 其中活动盖板下缘端设有加重体。 4.依申请专利范围第1项所述之水沟盖体结构改良, 其中盖板下端四方向设有补强肋。 5.依申请专利范围第1项所述之水沟盖体结构改良, 其中盖板中央透孔开口之凹缘边上设置有滤网为 平齐。 6.依申请专利范围第1项所述之水沟盖体结构改良, 其中盖板之适位处加置有调整螺丝组,以调整盖板 之高低。 7.依申请专利范围第1项所述之水沟盖体结构改良, 其中隔板两侧分别设置有卡杆呈弹性状态,以卡置 于盖板盒室内。 8.依申请专利范围第1项所述之水沟盖体结构改良, 其中盖板中央一体成型有隔条。 9.依申请专利范围第1项所述之水沟盖体结构改良, 其中活动盖板上端具有套筒,供轴心穿设呈可旋转 活动状态,轴心两端并施以定位体。 图式简单说明: 第一图:系第96200110号专利之立体分解图。 第二图:系第96200110号专利之组合剖视图。 第三图:系本创作之立体分解图。 第四图:系本创作之组合图。 第五图:系本创作之组合剖视图。 第六图:系本创作之动作示意图。 第七图:系本创作之使用示意图。 第八图:系本创作之使用外观图。 第九图:系本创作之另一实施例。 第十图:系本创作之调整实施例。 第十一图:系本创作之另一调整实施例。 第十二图:系本创作之区隔板另一实施例。 第十三图:系本创作之活动盖板另一实施例。 第十四图:系本创作之活动盖板组合剖视图。 第十五图:系本创作之盖板又一实施例。 |
