发明名称 Partial FinFET memory cell
摘要 A semiconductor structure includes a semiconductor substrate, a planar PMOS device at a surface of the semiconductor substrate, and an NMOS device at the surface of the semiconductor substrate, wherein the NMOS device is a Fin field effect transistor (FinFET).
申请公布号 US2008105932(A1) 申请公布日期 2008.05.08
申请号 US20060588483 申请日期 2006.10.27
申请人 LIAW JHON-JHY 发明人 LIAW JHON-JHY
分类号 H01L29/76;H01L21/336 主分类号 H01L29/76
代理机构 代理人
主权项
地址