| 发明名称 | 抗辐射结构 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种抗辐射结构，包括一基材；一反射层，邻接该基材之上；以及一周期性光栅，邻接该反射层。本发明亦提供另一种抗辐射结构，包括一基材，及一周期性光栅邻接该透明基材。上述的抗辐射结构可反射或绕射特定波段的入射辐射。 | ||
| 申请公布号 | CN101173992A | 申请公布日期 | 2008.05.07 |
| 申请号 | CN200610159883.6 | 申请日期 | 2006.11.02 |
| 申请人 | 财团法人工业技术研究院 | 发明人 | 林燕秀;苏宗粲;张明智;张佑嘉 |
| 分类号 | G02B5/18(2006.01) | 主分类号 | G02B5/18(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 魏晓刚;李晓舒 |
| 主权项 | 1.一种抗辐射结构，包括：一基材；一反射层，邻接该基材；以及一周期性光栅，置于该反射层之上，用以反射一入射辐射。 | ||
| 地址 | 中国台湾新竹县 | ||