| 发明名称 | 制造薄膜晶体管基板的方法和使用该方法的制造系统 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种制造薄膜晶体管基板的方法和使用该方法的制造系统，其中在制造薄膜晶体管基板的工艺期间减少了腐蚀性物质的产生。该方法包括提供蚀刻单元和其上已沉积有薄金属膜的绝缘基板，且干法蚀刻该绝缘基板以形成预定电路图案；为等待被清洁的该绝缘基板提供等待单元；在该绝缘基板等待时通过具有多个喷嘴的清洁单元执行初步清洁操作，且检查该初步清洁操作；以及基于检查结果对该绝缘基板执行主清洁操作。 | ||
| 申请公布号 | CN101174555A | 申请公布日期 | 2008.05.07 |
| 申请号 | CN200710194464.0 | 申请日期 | 2007.11.05 |
| 申请人 | 三星电子株式会社 | 发明人 | 吴旼锡;金湘甲;秦洪基;丁有光;崔升夏;金基铉;宋仁虎 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01);H01L21/84(2006.01) | 主分类号 | H01L21/00(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 陶凤波 |
| 主权项 | 1.一种制造薄膜晶体管基板的方法，该方法包括：提供蚀刻单元和包括薄金属膜的绝缘基板，且干法蚀刻该绝缘基板以形成电路图案；为等待被清洁的该绝缘基板提供等待单元；在该绝缘基板等待时通过具有多个喷嘴的清洁单元执行初步清洁操作，且检查该初步清洁操作；以及基于检查结果对该绝缘基板执行主清洁操作。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||