| 主权项 |
1.一种清洁用片材,其包括一多孔层作为清洁层。 2.一种清洁用片材,其包括一具有多孔层之片材,及 于片材之一面上形成之黏着层。 3.一种清洁用片材,其包括一基础材料及一于基础 材料之一面上形成为清洁层之多孔层。 4.一种清洁用片材,其包括一基础材料、一于基础 材料之一面上形成为清洁层之多孔层、及一形成 于基础材料之另一面上之黏着层。 5.如申请专利范围第1至4项中任一项之清洁用片材 ,其中,该多孔层实质上不具有黏性。 6.如申请专利范围第1至4项中任一项之清洁用片材 ,其中,该多孔层系为包含超高分子量聚乙烯之多 孔薄膜。 7.如申请专利范围第1至4项中任一项之清洁用片材 ,其中,该多孔层实质上不具有黏性,且系包含超高 分子量聚乙烯之多孔薄膜。 8.一种具有清洁功能之运送元件,其包括一运送元 件及透过黏着层而设置于其上之如申请专利范围 第2或4项之清洁用片材。 9.如申请专利范围第8项之具有清洁功能之运送元 件,其中,该清洁用片材具有较运送元件小之形状, 且其不从该运送元件之边缘突出。 10.一种基板处理装置之清洁方法,其包括将如申请 专利范围第1或3项之清洁用片材或如申请专利范 围第8项之运送元件输送至基板处理装置内。 |
