| 摘要 |
本发明之课题为提供一种精度高、且也可缩短曝光时间的曝光装置。本发明之曝光装置系使曝光台1上升,使膜遮罩2与基板90接触,而形成密闭空间40,且藉由减压泵60进行减压,而进行膜遮罩2与基板90的1次密着。接着,从导入孔52导入1kpa以上、20kpa以下范围的加压空气,且于膜遮罩2与玻璃30之间形成加压空间25,使膜遮罩2与基板90更加密着而进行2次密着。由于膜遮罩2与基板90因1次密着而已为密着状态,故从导入孔52的空气导入量只要微少量即可,因加压所致的膨出量也较微少,而可用短时间结束导入,且没有因膜遮罩2之膨胀所致的变形等弊害。 |
