| 发明名称 | 一种光刻胶清洗剂 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种光刻胶清洗剂，包含二甲基亚砜、季铵氢氧化物，其特征在于还含有表面活性剂：含羟基聚醚。这种含有含羟基聚醚表面活性剂的光刻胶清洗剂对于金属、金属合金或电介质基材上的光刻胶(光阻)和其它残留物具有良好的清洗能力，在半导体晶片清洗等微电子领域具有良好的应用前景。 | ||
| 申请公布号 | CN101169597A | 申请公布日期 | 2008.04.30 |
| 申请号 | CN200610117667.5 | 申请日期 | 2006.10.27 |
| 申请人 | 安集微电子（上海）有限公司 | 发明人 | 彭洪修;史永涛;刘兵;曾浩 |
| 分类号 | G03F7/42(2006.01);G03F7/32(2006.01);G03F7/26(2006.01) | 主分类号 | G03F7/42(2006.01) |
| 代理机构 | 上海虹桥正瀚律师事务所 | 代理人 | 李佳铭 |
| 主权项 | 1.一种光刻胶清洗剂，包含二甲基亚砜、季铵氢氧化物，其特征在于还含有表面活性剂：含羟基聚醚。 | ||
| 地址 | 201203上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼613－618室 | ||