发明名称 | 用于多中间掩模处理的中间掩模对准和覆盖 | ||
摘要 | 提供了一种用于生成多个中间掩模布图的方法。接收带有特征布图节距的特征布图。从特征布图生成多个中间掩模布图,其中多个中间掩模布图中的每个中间掩模布图具有中间掩模布图节距,并且每个中间掩模布图节距是特征布图节距的至少两倍。 | ||
申请公布号 | CN101171549A | 申请公布日期 | 2008.04.30 |
申请号 | CN200680015841.3 | 申请日期 | 2006.05.02 |
申请人 | 朗姆研究公司 | 发明人 | S·M·R·萨贾迪;尼古拉斯·布赖特 |
分类号 | G03F7/20(2006.01);H01L21/308(2006.01) | 主分类号 | G03F7/20(2006.01) |
代理机构 | 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 余刚;尚志峰 |
主权项 | 1.一种方法,包括:接收带有特征布图节距的特征布图;以及从所述特征布图生成多个中间掩模布图,其中,所述多个中间掩模布图中的每个中间掩模布图均具有中间掩模布图节距,并且其中,每个中间掩模布图节距是所述特征布图节距的至少两倍。 | ||
地址 | 美国加利福尼亚州 |