| 发明名称 | 一种可提高空间成像套刻检验精准度的光罩以及光刻方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种可提高空间成像套刻检验精准度的光罩以及光刻方法。现有技术中光罩上的空间成像套刻标记图形的图形密度过低及前烘工艺温度过低致使承载该空间成像套刻标记图形的光刻胶的边缘斜坡过宽且不均匀，而在空间成像套刻标记图形的周围设置单层辅助条纹后并不能彻底改善上述现象。本发明的光罩在其具有的空间成像套刻标记图形的周围均设置多层用于增大其图形密度的辅助条纹，本发明的光刻方法先涂布光刻胶；接着进行温度范围为115至125摄氏度的前烘工艺；然后使用该光罩进行曝光工艺；最后进行显影和后烘工艺。本发明可大大改善承载该空间成像套刻标记图形的光刻胶边缘的斜坡过宽且不均匀的现象，并大大提高空间成像套刻检验的精准度。 | ||
| 申请公布号 | CN101158808A | 申请公布日期 | 2008.04.09 |
| 申请号 | CN200710170541.9 | 申请日期 | 2007.11.16 |
| 申请人 | 上海宏力半导体制造有限公司 | 发明人 | 李杰;顾以理;朱亮;周从树;张迎春;刘夏英 |
| 分类号 | G03F1/14(2006.01);G03F1/00(2006.01);G03F7/00(2006.01);G03F7/039(2006.01);G03F7/38(2006.01);G03F7/40(2006.01);G03F7/26(2006.01) | 主分类号 | G03F1/14(2006.01) |
| 代理机构 | 上海思微知识产权代理事务所 | 代理人 | 屈蘅 |
| 主权项 | 1.一种可提高空间成像套刻检验精准度的光罩，该光罩上具有多个空间成像套刻标记图形，其特征在于，该空间成像套刻标记图形的周围设置有多层用于增大其图形密度的辅助条纹。 | ||
| 地址 | 201203上海市张江高科技圆区郭守敬路818号 | ||