| 发明名称 | 透明MgO薄膜制备方法及所得产品 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种采用电弧离子镀法制备透明MgO薄膜的方法，该方法包括：将衬底置于真空室内，真空室与低压大电流直流电源的正极相连，以纯镁作阴极靶，阴极靶与低压大电流直流电源的负极相连；向真空室通入Ar气，利用高偏压下Ar气辉光放电产生的等离子体对衬底表面进行轰击清洗；轰击清洗完成后，向真空室通入反应气体O<SUB>2</SUB>与保护气体Ar，使真空室内的工作压强为0.2～4Pa；以及向衬底施加负偏压并引燃电弧进行镀膜。 | ||
| 申请公布号 | CN101153379A | 申请公布日期 | 2008.04.02 |
| 申请号 | CN200610122517.3 | 申请日期 | 2006.09.29 |
| 申请人 | 中山大学 | 发明人 | 何振辉;闻立时;陈弟虎;朱道云;郑昌喜;王明东 |
| 分类号 | C23C14/00(2006.01);C23C14/08(2006.01);C23C14/22(2006.01);C23C14/54(2006.01) | 主分类号 | C23C14/00(2006.01) |
| 代理机构 | 广州三环专利代理有限公司 | 代理人 | 戴建波;杨献智 |
| 主权项 | 1.一种采用电弧离子镀法制备透明MgO薄膜的方法，该方法包括：以纯镁作阴极靶；将衬底置于真空室内；向所述真空室通入Ar气，并利用高偏压下Ar气的辉光放电对所述衬底表面进行轰击清洗；所述轰击清洗完成后，向所述真空室通入反应气体O2与保护气体Ar，使真空室内的工作压强为0.2～4Pa；向所述衬底施加0～1000V的负偏压；以及引燃电弧开始镀膜。 | ||
| 地址 | 510275广东省广州市新港西路135号 | ||