发明名称 | 碳青霉烯合成中间体的结晶 | ||
摘要 | 一种有利于工业制法的碳青霉烯合成中间体的结晶。提供该式所示化合物(I)的溶剂合物或该溶剂合物的结晶。 | ||
申请公布号 | CN100378099C | 申请公布日期 | 2008.04.02 |
申请号 | CN200480003793.7 | 申请日期 | 2004.02.12 |
申请人 | 盐野义制药株式会社 | 发明人 | 上仲正朗 |
分类号 | C07D477/00(2006.01) | 主分类号 | C07D477/00(2006.01) |
代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 刘元金;李连涛 |
主权项 | 1.下式化合物(I)的溶剂合物的结晶<img file="C2004800037930002C1.GIF" wi="1353" he="413" />其中所述溶剂合物为2-丙醇溶剂合物、2-戊醇溶剂合物、1-戊醇溶剂合物、叔戊醇溶剂合物或1-丙醇溶剂合物,其粉末X-射线衍射图的特征峰分别出现于12.80、11.21、4.75、4.58、4.28的间隔(d),14.77、10.25、5.36、5.03、4.66、4.42、4.25、4.14、4.05、3.97、3.62的间隔(d),12.13、5.66、4.98、4.83、4.56、4.43、4.21、4.14、3.76的间隔(d),14.72、10.25、5.36、5.04、4.79、4.66、4.43、4.25、4.06的间隔(d),或12.91、4.78、4.58的间隔(d)。 | ||
地址 | 日本大阪府 |