| 主权项 |
1.一种全氟弹性体物件,其系经包括聚矽氧烷及胺 甲酸乙酯低聚物之耐久性薄膜涂覆,其中该聚矽氧 烷是下式的聚矽氧烷之混合物: 其中n和m是致使该聚矽氧烷每一者具有500至5000间 之数量平均分子量,其系由采用聚苯乙烯校正标准 之筛析层析法所量测。 2.如申请专利范围第1项之全氟弹性体物件,其中该 薄膜具有0.1至10微米间之厚度。 3.如申请专利范围第2项之全氟弹性体物件,其中该 薄膜具有3至7微米间之厚度。 4.如申请专利范围第1项之全氟弹性体物件,其中该 胺甲酸乙酯低聚物系基于下式的异氰酸酯: 5.一种用以形成耐久性聚矽氧烷胺甲酸乙酯低聚 物薄膜在全氟弹性体物件上之方法,该方法包括: A. 使用包括i)具有侧羟基基团之聚矽氧烷及ii)经 保护之异氰酸酯之分散液涂覆固化之全氟弹性体 物件而形成湿涂之全氟弹性体物件; B. 在低于使该侧羟基基团与经保护之该异氰酸酯 产生反应而形成胺甲酸乙酯低聚物之温度下乾燥 该湿涂之全氟弹性体物件而形成乾涂之全氟弹性 体物件,及 C. 加热该乾涂之全氟弹性体物件至一温度在大于 100℃下历时超过5分钟,使该侧羟基基团与该受保 护之异氰酸酯产生反应而成胺甲酸乙酯低聚物及 包括聚矽氧烷及胺甲酸乙酯低聚物之持久性薄膜 在全氟弹性体物件之表面上。 6.如申请专利范围第5项之方法,其中该聚矽氧烷是 下式的聚矽氧烷之混合物: 其中n和m是致使聚矽氧烷每一者具有500至5000间之 数量平均分子量,其系由采用聚苯乙烯校正标准之 筛析层析法所量测。 7.如申请专利范围第5项之方法,其中该异氰酸酯具 有下式: 8.如申请专利范围第5项之方法,其中该分散液具有 9:1至1:1间之聚矽氧烷:异氰酸酯的重量比。 9.如申请专利范围第5项之方法,其中该湿涂之全氟 弹性体物件的乾燥系在20℃下之空气中进行。 10.如申请专利范围第5项之方法,其中该乾涂之全 氟弹性体物件之加热系在200℃温度下历时10分钟 。 |
