化学增强光阻材料用藉光产生酸剂,及含有藉光产生酸剂之光阻材料,以及使用其形成图型之方法

摘要

本发明系下述一般式（1）表示之化学增强光阻材料用之光酸产生剂。（R 系相同或不同，表示氢原子、氟原子、氯原子、硝基或碳数 1～12 之直链状、支链状或环状之取代或非取代之烷基或烷氧基。 n 系 0 或 1； m 系 1 或 2；r 系 0～4之整数，r'系 0～5 的整数）。使用本发明之藉由高能量线照射产生酸之光酸产生剂的化学增强型光阻材料系解像性、焦点宽容度优，即使 PED 为长时间时，线宽变化、形状劣化也很少，显影后之图型轮廓形状优异，具有适合精细加工之高解像性。特别是与具有缩醛型以外之酸不稳定基的树脂组合时，可抑制解像性及未曝光部之光阻膜上部之溶解，因此光阻形状良好，特别是在远紫外线微影方面能发挥强大威力。