| 主权项 |
1.一种可挠性材料之大气辉光电浆表面处理装置, 其至少包含: 一至少一对以上之电极; 一至少一对以上之高压电源连接棒,系包含一金属 螺杆及一对调整螺帽,固定于该电极并作为调整电 极间之距离; 一电源供应装置,系透过该连接棒提供电极所需之 高电压; 一至少一对以上之介电屏蔽板,系利用矽胶固着于 该电极,其边缘包含至少一以上之封气绝缘板及橡 皮垫; 一至少一对以上之均匀进出气装置,系包含至少一 对以上之进出气管及一对以上之进出气装置底座; 一至少一对以上之处理物平移之封气装置,系由至 少一以上之圆柱构成; 一至少一对以上之卷轴装置,系用以传送处理物; 以及 一定位板,系将该卷轴装置、处理物平移之封气装 置、均匀进出气装置及电极定位并利用至少一以 上之定位螺帽加以固定。 2.依据申请专利范围第1项所述之可挠性材料之大 气辉光电浆表面处理装置,其中,该电极之材料为 铝或铜等金属。 3.依据申请专利范围第1项所述之可挠性材料之大 气辉光电浆表面处理装置,其中,该电极连接棒之 一接至高压电源输出之高压端,另一电极连接棒接 地。 4.依据申请专利范围第1项所述之可挠性材料之大 气辉光电浆表面处理装置,其中,该处理物可为一 织物或一高分子薄膜。 5.依据申请专利范围第1项所述之可挠性材料之大 气辉光电浆表面处理装置,其中,该电极可进一步 连接至少一以上之冷却水装置。 6.依据申请专利范围第1项所述之可挠性材料之大 气辉光电浆表面处理装置,其中,该介电屏蔽板之 厚度系小于或等于2厘米。 7.依据申请专利范围第1项所述之可挠性材料之大 气辉光电浆表面处理装置,其中,该介电屏蔽板及 封气绝缘板之材料系可为玻璃、塑胶或陶磁等绝 缘材料。 8.依据申请专利范围第1项所述之可挠性材料之大 气辉光电浆表面处理装置,其中,该橡皮垫之材料 系可为弹性之软质塑胶等绝缘材料。 9.依据申请专利范围第1项所述之可挠性材料之大 气辉光电浆表面处理装置,其中,该处理物平移之 封气装置系可由单圆柱或双圆柱构成。 10.依据申请专利范围第1项所述之可挠性材料之大 气辉光电浆表面处理装置,其中,该均匀进出气装 置之进出气管设有至少一以上之进出气孔。 11.依据申请专利范围第1项所述之可挠性材料之大 气辉光电浆表面处理装置,其中,该进出气管系可 通入一电浆气体。 12.依据申请专利范围第1项所述之可挠性材料之大 气辉光电浆表面处理装置,其中,该电极间距之调 整范围系介于2毫米至20毫米间。 13.依据申请专利范围第1项所述之可挠性材料之大 气辉光电浆表面处理装置,其中,该电源供应装置 系可为脉冲电源。 14.依据申请专利范围第1项所述之可挠性材料之大 气辉光电浆表面处理装置,其中,该电源供应装置 系可为连续式交流电源。 15.依据申请专利范围第1项所述之可挠性材料之大 气辉光电浆表面处理装置,其中,该电源供应装置 之电压范围系介于1千伏特至100千伏特之间。 16.依据申请专利范围第1项所述之可挠性材料之大 气辉光电浆表面处理装置,其中,该电源供应装置 之频率范围系介于1kHz至100kHz之间。 17.依据申请专利范围第9项所述之可挠性材料之大 气辉光电浆表面处理装置,其中,该封气圆柱系由 一金属或陶瓷转轴及一橡皮垫所构成。 18.依据申请专利范围第10项所述之可挠性材料之 大气辉光电浆表面处理装置,其中,该进出气孔之 直径与其至该进出气管入口之距离成正比。 19.依据申请专利范围第11项所述之可挠性材料之 大气辉光电浆表面处理装置,其中,该电浆气体系 可为氦气、氩气、氧气、氮气、二氧化碳、空气 、氨气、四氟化碳(CF4)、六氟化三碳(C3F6)、八氟 化四碳(C4F8)及各种气态单体或其混合气体。 图式简单说明: 第1图,系本发明之装置结构示意图。 第2图,系本发明之处理物平移封气装置结构示意 图。 第3图,系本发明之均匀进出气装置侧面剖面结构 示意图。 第4A图,系本发明之电极与介电屏蔽板组合侧面剖 面结构示意图。 第4B图,系本发明之电极与介电屏蔽板组合俯视结 构示意图。 第5图,系本发明之冷却水装置结构示意图。 第6图,系习用之装置结构示意图。 |
