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使用单一遮罩形成图案之方法
摘要
一种使用单一遮罩形成图案之方法,包含:配置一具有已界定图案之光罩,并藉由控制曝光设备之焦距长度至聚焦位置,执行曝光制程,以于晶圆上形成具有相同于光罩形状之图案;及使用该相同光罩,并藉由控制曝光设备之焦距长度至散焦位置,执行曝光制程,以于晶圆上相对于该图案形成一具有相反影像之相反图案。
申请公布号
TW200815944
申请公布日期
2008.04.01
申请号
TW096126764
申请日期
2007.07.23
申请人
海力士半导体股份有限公司
发明人
梁铉祚
分类号
G03F7/213(2006.01)
主分类号
G03F7/213(2006.01)
代理机构
代理人
何金涂;丁国隆
主权项
地址
韩国
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