发明名称 使用单一遮罩形成图案之方法
摘要 一种使用单一遮罩形成图案之方法,包含:配置一具有已界定图案之光罩,并藉由控制曝光设备之焦距长度至聚焦位置,执行曝光制程,以于晶圆上形成具有相同于光罩形状之图案;及使用该相同光罩,并藉由控制曝光设备之焦距长度至散焦位置,执行曝光制程,以于晶圆上相对于该图案形成一具有相反影像之相反图案。
申请公布号 TW200815944 申请公布日期 2008.04.01
申请号 TW096126764 申请日期 2007.07.23
申请人 海力士半导体股份有限公司 发明人 梁铉祚
分类号 G03F7/213(2006.01) 主分类号 G03F7/213(2006.01)
代理机构 代理人 何金涂;丁国隆
主权项
地址 韩国