于矽表面形成金属矽化层之方法及其应用

摘要

一种于矽表面形成一金属矽化层之方法，其中，系先于该矽表面上植入惰性气体离子，接着形成一金属层，再将该金属层转变为该金属矽化层。藉此，可于不影响导电成分之掺杂浓度下，降低金属矽化层之电阻值并提升其均匀度，以提升元件效能。