| 发明名称 | 改性基材及改性基材的制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明的特征为，在材料的构成成分中含有在主链或侧链上含有酯基、且具有疏水基的聚合物。特别是通过在一元醇水溶液、或者、对于单体或其聚合物单元在结合有羟基的碳间具有1个以上的碳原子的二元以上的醇水溶液，与在主链或侧链上含有酯基的聚合物接触的状态下进行放射线照射，可引入疏水基。 | ||
| 申请公布号 | CN101151303A | 申请公布日期 | 2008.03.26 |
| 申请号 | CN200680010447.0 | 申请日期 | 2006.03.28 |
| 申请人 | 东丽株式会社 | 发明人 | 荒木美帆;上野良之;菅谷博之 |
| 分类号 | C08J7/00(2006.01);A61L31/00(2006.01);A61L33/00(2006.01);A61M1/18(2006.01);B01D65/02(2006.01);B01D69/08(2006.01);B01D71/40(2006.01);D06M10/00(2006.01);D06M13/144(2006.01);D06M101/26(2006.01) | 主分类号 | C08J7/00(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市中咨律师事务所 | 代理人 | 段承恩;田欣 |
| 主权项 | 1.一种改性基材的制造方法，其特征在于，在一元醇水溶液、或者、对于单体或其聚合物单元在结合有羟基的碳间具有1个以上的碳原子的二元以上、且分子量小于2000的醇水溶液与基材接触的状态下，对基材进行放射线照射。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||