| 发明名称 |
Inert barrier for high purity epitaxial deposition systems |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP1065701(B1) |
申请公布日期 |
2008.03.26 |
| 申请号 |
EP20000113952 |
申请日期 |
2000.06.30 |
| 申请人 |
APPLIED MATERIALS, INC. |
发明人 |
DE LOMINIE, ROMAIN BEAU;CARLSON, DAVID K. |
| 分类号 |
C23C16/00;H01L21/00;C23C16/44;C30B25/08;H01L21/205 |
主分类号 |
C23C16/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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