| 主权项 |
1.一种用于藉由投影光来显示影像之萤幕,其包含: 一选择性反射层,其对于对应该投影光在三原色波 长区域内之光具有反射特性,并且对于该三原色波 长区域以外之一波长区域内之光具有吸收特性, 其中该选择性反射层包含:一光学多层膜,其具有 一介电膜以及一具有透射特性之光吸收薄膜,其中 该介电膜形成材料系选自由Nb2O5、TiO2、Ta2O5、Al2O3 及SiO2所组成之群组,以及其中该光吸收薄膜系由 折射率为1或更大并且吸收系数为0.5或更大之材料 所形成以及该光吸收薄膜之形成材料系选自由Nb 、Nb合金、C、Cr、Fe、Ge、Ni、Pd、Pt、Rh、Ti、TiN、 TiNxWy、Mn、Ru及PbTe所组成之群组;以及一反射层,其 用于反射已通过该光学多层膜之光。 2.如请求项1之萤幕,其中该光吸收薄膜具有在5至20 nm范围内之一厚度。 3.如请求项1之萤幕,其中该反射层系一金属基板。 4.如请求项1之萤幕,其中该反射层系一金属膜。 5.如请求项3或4之萤幕,其中该反射层之形成材料 系选自由Al、Nb或Ag或其合金所组成之群组。 6.如请求项1之萤幕,其进一步包含一扩散层,用于 散射来自该选择性反射层之反射光。 7.如请求项6之萤幕,其进一步包含一黏着层,该黏 着层系形成于该扩散层与该选择性反射层之间并 组合该等二层,且包括一吸收该特定波长区域内之 光之着色材料。 8.如请求项1之萤幕,其中在其上形成该光学多层膜 之该反射层之一表面上形成复数个突出部分或凹 陷部分,用于散射来自该选择性反射层之该反射光 。 9.如请求项1之萤幕,其中该波长区域包括针对红光 、绿光与蓝光之个别波长区域。 10.如请求项9之萤幕,其中该选择性反射层具有反 射特性,以便根据在该等个别RGB色彩之波长区域中 一光源之该投影光强度来调整在该等波长区域中 之反射强度。 11.如请求项1之萤幕,其中具有吸收特性之该波长 区域包括来自一萤光灯之光之明线峰値。 12.如请求项1之萤幕,其中具有吸收特性之该波长 区域系分别配置于该投影光之红色成分之明线峰 値之波长与绿色成分之明线峰値之波长之间的区 域处,以及绿色成分之明线峰値之波长与蓝色成分 之明线峰値之波长之间的区域处。 13.一种制造萤幕之方法,该方法包含: 一用于形成一选择性反射层之步骤,该选择性反射 层对于一三原色波长区域内之光具有反射特性,并 且对于该三原色波长区域以外之一波长区域内之 光具有吸收特性, 其中该用于形成一选择性反射层之步骤包含一用 于在一金属基板上形成一光学多层膜之步骤,该光 学多层膜包括一介电膜与一具有透射特性之光吸 收薄膜,其中该介电膜形成材料系选自由Nb2O5、TiO2 、Ta2O5、Al2O3及SiO2所组成之群组,以及其中该光吸 收薄膜系由折射率为1或更大并且吸收系数为0.5或 更大之材料所形成以及该光吸收薄膜之形成材料 系选自由Nb、Nb合金、C、Cr、Fe、Ge、Ni、Pd、Pt、Rh 、Ti、TiN、TiNxWy、Mn、Ru及PbTe所组成之群组。 14.如请求项13之制造萤幕之方法,其中该光吸收薄 膜具有在5至20nm范围内之一厚度。 15.如请求项13之制造萤幕之方法,其中该光学多层 膜系由喷溅方法形成。 16.如请求项13之制造萤幕之方法,其中该金属基板 之形成材料系选自由Al、Nb或Ag或其合金所组成之 群组。 17.如请求项13之制造萤幕之方法,其进一步包含一 用于在该光学多层膜上形成一扩散层以便散射光 之步骤。 18.如请求项17之制造萤幕之方法,其中用于形成一 扩散层之该步骤包含一用于透过一黏着层将该扩 散层黏接至该光学多层膜之步骤,该黏着层具有一 吸收该波长区域内之光的着色材料。 19.如请求项13之制造萤幕之方法,其中在形成该光 学多层膜之该金属基板之一表面上形成复数个突 出部分或凹陷部分。 20.如请求项13之制造萤幕之方法,其中该波长区域 包括针对红光、绿光与蓝光之个别波长区域。 21.如请求项13之制造萤幕之方法,其中具有吸收特 性之该波长区域包括来自一萤光灯之光之明线峰 値。 22.如请求项13之制造萤幕之方法,其中具有吸收特 性之该波长区域系分别配置于一可能光源之红色 成分之明线峰値之波长与绿色成分之明线峰値之 波长之间的区域处,以及绿色成分之明线峰値之波 长与蓝色成分之明线峰値之波长之间的区域处。 23.一种制造萤幕之方法,该方法包含: 一其用于形成一选择性反射层之步骤,该选择性反 射层对于一三原色波长区域内之光具有反射特性, 并且对于该三原色波长区域以外之一波长区域内 之光具有吸收特性, 其中用于形成一选择性反射层之该步骤包含一用 于在一基板上形成一金属膜之步骤,以及一用于在 该金属膜上形成一光学多层膜之步骤,该光学多层 膜包括一介电膜与一具有透射特性之光吸收薄膜, 其中该介电膜形成材料系选自由Nb2O5、TiO2、Ta2O5 、Al2O3及SiO2所组成之群组,以及其中该光吸收薄膜 系由折射率为1或更大并且吸收系数为0.5或更大之 材料所形成以及该光吸收薄膜之形成材料系选自 由Nb、Nb合金、C、Cr、Fe、Ge、Ni、Pd、Pt、Rh、Ti、 TiN、TiNxWy、Mn、Ru及PbTe所组成之群组。 24.如请求项23之制造萤幕之方法,其中该光吸收薄 膜具有在5至20nm范围内之一厚度。 25.如请求项23之制造萤幕之方法,其中该金属膜与 该光学多层膜系由喷溅方法形成。 26.如请求项23之制造萤幕之方法,其中该金属膜之 形成材料系选自由Al、Nb或Ag或其合金所组成之群 组。 27.如请求项23之制造萤幕之方法,其进一步包含一 用于在该光学多层膜上形成一扩散层以便散射光 之步骤。 28.如请求项27之制造萤幕之方法,其中用于形成一 扩散层之该步骤包含一用于透过一黏着层将该扩 散层黏接至该光学多层膜之步骤,该黏着层具有一 吸收该特定波长区域内之光的着色材料。 29.如请求项23之制造萤幕之方法,其中在形成该金 属膜之该基板之一表面上形成复数个突出部分或 凹陷部分。 30.如请求项23之制造萤幕之方法,其中该波长区域 包括针对红光、绿光与蓝光之个别波长区域。 31.如请求项23之制造萤幕之方法,其中具有吸收特 性之该波长区域包括来自一萤光灯之光之明线峰 値。 32.如请求项23之制造萤幕之方法,其中具有吸收特 性之该波长区域系分别配置于一可能光源之红色 成分之明线峰値之波长与绿色成分之明线峰値之 波长之间的区域处,以及绿色成分之明线峰値之波 长与蓝色成分之明线峰値之波长之间的区域处。 33.一种制造萤幕之方法,该方法包含: 一形成步骤,其用于形成一选择性反射层,该选择 性反射层对于一特定波长区域内之光具有反射特 性,并且对于该特定波长区域以外之一波长区域内 之光具有吸收特性, 其中用于形成一选择性反射层之该步骤包含一用 于在一扩散器面板之后表面上形成一光学多层膜 之步骤,以及一用于在该光学多层膜上形成一金属 膜之步骤,该光学多层膜包括一介电膜与一具有透 射特性之光吸收薄膜。 34.如请求项33之制造萤幕之方法,其中该光学多层 膜与该金属膜系由喷溅方法形成。 35.如请求项33之制造萤幕之方法,其中该金属膜之 形成材料系选自由Al、Nb或Ag或其合金所组成之群 组。 36.如请求项33之制造萤幕之方法,其中该波长区域 包括针对红光、绿光与蓝光之个别波长区域。 37.如请求项33之制造萤幕之方法,其中具有吸收特 性之该波长区域包括来自一萤光灯之光之明线峰 値。 38.如请求项33之制造萤幕之方法,其中具有吸收特 性之该波长区域系分别配置于一可能光源之红色 成分之明线峰値之波长与绿色成分之明线峰値之 波长之间的区域处,以及绿色成分之明线峰値之波 长与蓝色成分之明线峰値之波长之间的区域处。 图式简单说明: 图1系根据本发明之第一具体实施例之萤幕之断面 图; 图2系说明含有Al/Nb2O5(539 nm)/Nb(6 nm)之选择性反射 层之反射特性之示意图; 图3系含有Al/Nb2O5之一层之反射特性之示意图; 图4系说明关于选择性反射层在三原色波长区域内 之反射率之厚度相依性之示意图; 图5系说明关于选择性反射层在三原色波长区域内 之反射率之入射角相依性之示意图; 图6系说明含有Al/Nb2O5(534 nm)/Nb(19 nm)/Nb2O5(534 nm)之 选择性反射层之反射特性之示意图; 图7系说明含有Al/Nb2O5(551 nm)/Nb(17 nm)/Nb2O5(551 nm)/Nb( 13 nm)/Nb2O5(551 nm)之选择性反射层之反射特性之示 意图; 图8系说明含有Al-Nb2O5-Nb-Nb2O5之选择性反射层与含 有Al-SiO2-Nb-SiO2之选择性反射层之间之反射特性比 较之示意图; 图9系说明含有Nb2O5-Nb(19 nm)-Nb2O5之光学多层膜之反 射特性与含有Al-Nb2O5-Nb(19 nm)-Nb2O5之选择性反射层 之反射特性之示意图; 图10系说明含有Nb2O5-Ti(17 nm)-Nb2O5之光学多层膜之 反射特性与含有Al-Nb2O5-Ti(17 nm)-Nb2O5之选择性反射 层之反射特性之示意图; 图11系说明含有Nb2O5-Cr(15 nm)-Nb2O5之光学多层膜之 反射特性与含有Al-Nb2O5-Cr(15 nm)-Nb2O5之选择性反射 层之反射特性之示意图; 图12系说明Nb2O5-Al(15 nm)-Nb2O5之反射特性与Al-Nb2O5-Al (15 nm)-Nb2O5之反射特性之示意图; 图13系说明含有Al/Nb2O5(534 nm)/Nb(19 nm)/Nb2O5(538 nm)/SiO 2(988 nm)/Nb2O5(518 nm)之选择性反射层之反射特性之 示意图; 图14系说明含有Al/SiO2(554 nm)/Nb2O5(327 nm)/Nb(6 nm)之选 择性反射层之反射特性之示意图; 图15系说明含有Al/SiO2(429 nm)/Al2O3(392 nm)/Nb2O5(254 nm)/ Nb(6 nm)之选择性反射层之反射特性之示意图; 图16(含有图16(A)与图16(B))系说明萤光灯之明线光 谱以及含有Al/Nb2O5(975 nm)/Nb(12 nm)之选择性反射层 之反射特性之示意图; 图17系说明含有Al(100 nm)/Nb2O5(450 nm)/Nb(3 nm)/Nb2O5(330 nm)之选择性反射层之反射特性以及光源之明线光 谱之示意图; 图18系说明含有Al/树脂膜(折射率:1.68;1,372 nm)/Nb(12 nm)之选择性反射层之反射特性之示意图; 图19系关于第一具体实施例之变化之一范例之断 面图; 图20系根据本发明之第二具体实施例之萤幕之断 面图; 图21系根据本发明之第三具体实施例之萤幕之断 面图; 图22系根据本发明之第四具体实施例之萤幕之断 面图; 图23系说明根据本发明一具体实施例之萤幕之黏 着层之光透射率特性之示意图; 图24系根据本发明一具体实施例说明一萤幕之黏 着层上之投影光与环境光之入射状态之示意图,以 及 图25系传统萤幕之断面图。 |
