曝光设备以及使用该曝光设备的器件制造方法

摘要

一种曝光设备，将激励激光照射到靶上，并由所产生的等离子体产生用于生成远紫外区或者X射线区的照射光的光源，该曝光设备包括：照射光学系统，使用所述照射光照射形成要转移的图案的反射初缩掩模版，该照射光学系统包括最接近所述光源的第一反射镜；椭球面反射镜，用于在所述照射光学系统中的所述第一反射镜之前会聚所述照射光；以及投影光学系统，将在所述反射初缩掩模版上反射的图案缩小并投影到要被曝光的对象上，其中，在所述激励激光的光轴方向超过由激励激光产生等离子体的位置的地方的光不干扰包括所述照射和投影光学系统和所述椭球面反射镜的所述曝光设备中的部件。

主权项

1.一种曝光设备，将激励激光照射到靶上，并由所产生的等离子体产生用于生成远紫外区或者X射线区的照射光的光源，该曝光设备包括：照射光学系统，使用所述照射光照射形成要转移的图案的反射初缩掩模版，该照射光学系统包括最接近所述光源的第一反射镜；椭球面反射镜，用于在所述照射光学系统中的所述第一反射镜之前会聚所述照射光；以及投影光学系统，将在所述反射初缩掩模版上反射的图案缩小并投影到要被曝光的对象上，其中，在所述激励激光的光轴方向超过由激励激光产生等离子体的位置的地方的光不干扰包括所述照射和投影光学系统和所述椭球面反射镜的所述曝光设备中的部件，并且，其中，从所述靶出射的激励激光通过所述椭球面反射镜中的通过部分，向所述靶入射的激励激光通过所述椭球面反射镜的一个通过所述照射光的开口。