| 发明名称 | 用于制造显示设备的掩模 | ||
| 摘要 | 本发明涉及用于补偿包括在每个格栅部分中的格栅的变型的掩模。该掩模包括其中形成至少一个格栅的多个格栅部分，其中在格栅的第一格栅部分中形成的某些或全部格栅是倾斜的。这里，第一格栅部分是格栅部分的最外面的格栅部分之一。在该掩模中，在拉伸工序中，通过拉伸力变形的格栅可具有与没有施加拉伸力的正常格栅相同的形状。因此，在蒸发有机层的工序中，可以在基片的期望部分上准确地蒸发该层。 | ||
| 申请公布号 | CN101139698A | 申请公布日期 | 2008.03.12 |
| 申请号 | CN200610169051.2 | 申请日期 | 2006.12.20 |
| 申请人 | LG电子株式会社 | 发明人 | 朴钟贤 |
| 分类号 | C23C14/04(2006.01);C23C14/12(2006.01) | 主分类号 | C23C14/04(2006.01) |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 钟强;夏凯 |
| 主权项 | 1.一种掩模，包括：多个格栅部分，其中形成至少一个格栅，其中在格栅的第一格栅部分中形成的某些或全部格栅是倾斜的，其中第一格栅部分是格栅部分的最外面的格栅部分之一。 | ||
| 地址 | 韩国首尔 | ||