发明名称 用于外延生长的原位应力光学监控装置
摘要 本实用新型公开了一种用于外延生长的原位应力光学监控装置包括激光器、激光分束器、图像采集设备、控制系统以及构成相应光路的光学元件,其中,所述光路为,所述激光器发出的激光束经激光分束器分束成平行的激光束,经光学元件入射到待测外延生长片的表面,反射光经光学元件出射,成像在图像采集设备上,其特征在于:在所述外延生长片所处的反应室内,位于样品托的上方,设置有石英全反棱镜,所述光路中,分束后的平行激光束经所述石英全反棱镜反射后,入射到样品托上的外延生长片表面。本实用新型可扩展在位光学系统在各种反应设备中的应用,特别适合于水平结构的HVPE设备。
申请公布号 CN201033809Y 申请公布日期 2008.03.12
申请号 CN200720039487.X 申请日期 2007.06.08
申请人 苏州纳米技术与纳米仿生研究所 发明人 王建峰;徐科;朱建军;杨辉
分类号 C30B25/16(2006.01) 主分类号 C30B25/16(2006.01)
代理机构 苏州创元专利商标事务所有限公司 代理人 陶海锋
主权项 1.一种用于外延生长的原位应力光学监控装置包括激光器、激光分束器、图像采集设备、控制系统以及构成相应光路的光学元件,其中,所述光路为,所述激光器发出的激光束经激光分束器分束成平行的激光束,经光学元件入射到待测外延生长片的表面,反射光经光学元件出射,成像在图像采集设备上,其特征在于:在所述外延生长片所处的反应室[7]内,位于样品托[2]的上方,设置有石英全反棱镜[3],所述光路中,分束后的平行激光束经所述石英全反棱镜反射后,入射到样品托上的外延生长片表面。
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