硷液显像装置用洗净剂组成物

摘要

本发明系提供一种含有1种或2种以上之一般式 R-O-(AO)n-H(1)(式中，R代表碳原子数2~6之直链或分枝之烷基或苯基，A代表相同或相异均可之碳原子数2~4之亚烷基，n为0≦n≦20之数者)所示之单羟基化合物做为必须成份之酸性水溶液所成者为其特征之硷液显像装置用洗净剂组成物者。藉由本发明可有效去除浮渣之难溶性附着物的硷液显像装置用洗净剂组成物者。

主权项

1.一种硷液显像装置用洗净剂组成物,其特征系以 含有1种或2种以上如一般式R-O-(AO)n-H (1) (式中,R代表碳原子数2~6之直链或分枝之烷基或苯 基,A代表相同或相异均可之碳原子数2~4亚烷基、n 为0≦n≦20之数者)所示之单羟基化合物做为必须 成份之酸性水溶液所成者,以组成物之2~70重量%比 例含有该单羟基化合物。 2.如申请专利范围第1项之硷液显像装置用洗净剂 组成物,其中该单羟基化合物为丁醇者。 3.如申请专利范围第1项之硷液显像装置用洗净剂 组成物,其中该单羟基化合物为1种或2种以上如一 般式 R-O-(AO)n-H (2) (式中,R代表碳原子数2~6之直链或分枝之烷基或苯 基,A代表相同或相异均可之碳原子数2~4之亚烷基 者,n为0