发明名称 |
半导体存储装置及半导体集成电路装置 |
摘要 |
一种半导体存储装置,在用存取Tr(103)及单元电容器(104)构成的DRAM存储单元中,存取Tr(103)及单元电容器(104)使用耗尽型MOSFET;与过去相比,可扩大动作余量,需要的电源数亦可比过去减少。从而可提供一种电源电压即使低电压化亦可动作,可用简单构成实现,且容易用逻辑加工形成的半导体存储装置。 |
申请公布号 |
CN100373501C |
申请公布日期 |
2008.03.05 |
申请号 |
CN200310123125.5 |
申请日期 |
2003.12.19 |
申请人 |
松下电器产业株式会社 |
发明人 |
山崎裕之;广濑雅庸 |
分类号 |
G11C11/407(2006.01);H01L27/108(2006.01) |
主分类号 |
G11C11/407(2006.01) |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 |
代理人 |
汪惠民 |
主权项 |
1.一种半导体存储装置,包括:字线;与所述字线交叉的第1位线;与所述第1位线形成位线对的第2位线;具有:栅电极连接在所述字线上、第1扩散层连接在所述第1位线上的MISFET的存取晶体管;和连接在所述存取晶体管的第2扩散层上、可保持电荷的单元电容器,且配置在所述字线与所述第1位线的交点的存储单元;读出动作时,用于放大在所述第1位线与所述第2位线间产生的电位差的读出放大器;以及在所述存储单元为非活性状态的期间,向位线施加一定电压的预充电补偿电路,所述第1位线,在高电平时被施加正的电源电压,在低电平时被施加所述接地电压,所述存取晶体管是耗尽型的p沟道型MISFET,在所述存储单元的活性化时,通过所述字线在存取晶体管的栅电极上施加所述接地电压。 |
地址 |
日本大阪府 |