一种基片清洗装置

摘要

一种基片清洗装置，是一种专门为实验室设计的基片清洗装置，可以放置并清洗石英片、透明导电玻璃(ITO)基片、硅片等。尺寸从1cm×1cm、3cm×4cm、10cm×10cm均可，并可同时清洗1cm×1cm的基片150片。可以根据实际需要，配套拆装清洗装置中的不同衬底和隔层，以供放置不同尺寸的基片，达到灵活多用的效果。本实用新型遵循“紧密节约”的设计理念，使得容器中最大容纳基片数量得到大幅提高，减少容器内空间闲置，节省溶液。外层容器装置材料采用石英和四氟聚合物等抗酸碱材料，扩容了可使用清洗溶液的范围。上下开口，可以配套使用循环抽水机提高效率，使得本装置可以作为保存基片的装置置于真空干燥器中。

主权项

1.一种基片清洗装置，其特征在于该基片清洗装置主要包括基体(1)、前后挡板(2)、左右挡板(3)、横隔板(4)、竖隔板(5)、石英杯(6)、盖子(7)和水泵(8)；基体(1)由底面、立柱及提手组成：基体(1)底面上设有基片格及漏水口；立柱上设有用于固定前后挡板(2)、左右挡板(3)和横隔板(4)的内置式固定插槽；对应立柱顶端的连接体构成提手；前后挡板(2)上设有立柱插槽臂，并设有与基体(1)底面及横隔板(4)基片格分隔槽对应的内槽；左右挡板(3)上设有立柱插槽臂，并设有与基体(1)底面及横隔板(4)基片格槽对应的内槽；横隔板(4)上设有立柱插槽臂和基片格；竖隔板(5)设有前后挡板(2)插槽臂，其内槽与基体(1)底面基片格、横隔板(4)基片格及左右挡板(3)内槽相对应；基体(1)包容在石英杯(6)内；石英杯(6)底部设有触脚装置。石英杯盖子(7)和其底端的水管接口分别与水泵(8)的出口和入口连接。