基板处理装置

摘要

本发明提供一种基板处理装置，其可防止基板下面之污染及损伤，并将基板之面内进行均匀热处理者。基板处理装置1系以非接触方式将基板90保持于基板保持板12上，一面使基板90往一方向移动，一面施行加热处理。因此，无需支持销等构件抵接于基板90之下面，而可防止基板90的损伤或污染。又，也不会因支持销等构件造成加热处理呈现部分不均匀现象。又，由于一面搬送基板90一面施行加热处理，所以尽管基板90下面侧有气体流动，仍可将基板90之面内进行均匀热处理。