| 摘要 |
本发明提供一种投影曝光装置，在以规定的偏光(optical polarization)状态之照明光来照明光罩(mask)之际，可使光量损失减少。此投影曝光装置具有照明光学系统ILS与投影光学系统PL。其中，照明光学系统ILS系以照明光IL来照射光栅(reticle)R，投影光学系统PL，系将光栅R之图案的像投影于晶圆(wafer)W上。在照明光学系统ILS中，从曝光光源1以直线偏光状态所射出之照明光IL，系通过进相轴之方向相异的第一及第二复折射构件12、13，大略在特定环带状之领域以光轴为中心之圆周方向上实质上变换成直线偏光之偏光状态后，经复眼透镜14等以环带照明条件来照明该光栅R。 |
