| 发明名称 | 扩散系统 | ||
| 摘要 | 提供一用于在晶片中形成掺杂层的扩散系统。该扩散系统包括一产生掺杂气体的扩散器；一预先混合掺杂气与反应气体并预先加热气体混合物的预先混合器；一主室，气体混合物在其中与晶片发生反应；一缓冲箱，其从外部隔离排气孔，并从外部隔离用来将晶片安装进或退出主室的挡板；以及一在主室的反应后将用过的气体排出的废气排出系统。 | ||
| 申请公布号 | CN100372067C | 申请公布日期 | 2008.02.27 |
| 申请号 | CN200410068272.1 | 申请日期 | 2004.08.27 |
| 申请人 | 三星电子株式会社 | 发明人 | 金俊永;崔秉龙;李银京 |
| 分类号 | H01L21/22(2006.01) | 主分类号 | H01L21/22(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 陶凤波;侯宇 |
| 主权项 | 1.一种用于在晶片中形成掺杂层的扩散系统，包括：一产生掺杂气体的扩散器；一预先混合掺杂气与反应气体并预先加热气体混合物的预先混合器；一主室，气体混合物在其中与晶片发生反应；一缓冲箱，其从外部隔离排气孔，并从外部隔离用来将晶片安装进或退出主室的挡板；以及一在主室中的反应后将用过的气体排出的废气排出系统。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||