| 发明名称 | 研磨垫及其制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种研磨垫，通过该研磨垫可以稳定且高研磨效率地将透镜、反射镜等的光学材料、或硅晶片、硬盘用的玻璃基片、铝基片、以及一般的金属研磨加工等的要求高度表面平坦性的材料平坦化。本发明还提供半导体晶片用研磨垫，其平坦化特性优良，划痕的发生少并且可以低成本制造。还提供无脱夹误差从而不仅不损害晶片也不降低作业效率的研磨垫。还提供平坦性、晶片内均匀性、和研磨速度令人满意、并且研磨速度变化小的研磨垫。还提供可以同时获得平坦性提高和划痕减少的研磨垫。 | ||
| 申请公布号 | CN101130233A | 申请公布日期 | 2008.02.27 |
| 申请号 | CN200710148750.3 | 申请日期 | 2002.10.03 |
| 申请人 | 东洋橡胶工业株式会社 | 发明人 | 下村哲生;中森雅彦;山田孝敏;增井敬志;驹井茂;小野浩一;小川一幸;数野淳;木村毅;濑柳博 |
| 分类号 | B24B37/04(2006.01);B24D3/20(2006.01);B24D13/00(2006.01);B24D18/00(2006.01);H01L21/304(2006.01) | 主分类号 | B24B37/04(2006.01) |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 王海川;樊卫民 |
| 主权项 | 1.一种具有以聚合物材料为基质材料的研磨层的研磨垫，其中聚合物材料在20℃、pH 11的氢氧化钠水溶液中浸渍24小时时的膨胀度为2～15％。 | ||
| 地址 | 日本大阪府大阪市 | ||