| 主权项 |
1.一种反射型液晶显示元件之反射板,系包含有偏 光特性相异之2个以上领域者,前述2个以上领域任 一者皆具有可反射或散射光之复数微小元件,且相 邻之领域中反射元件系以预定之不同间距配列。 2.一种反射型液晶显示元件之反射板,系包含有反 射光之反射特性相异之2个以上领域者,前述2个以 上领域任一者皆具有可反射或散射光之复数微小 元件,且相邻之领域中反射元件系以预定之不同间 距配列。 3.如申请专利范围第1或2项之反射型液晶显示元件 之反射板,其中: 前述复数种领域反射光之绕射角不同。 4.如申请专利范围第3项之反射型液晶显示元件之 反射板,其中: 前述元件之间的平均间距不同。 5.如申请专利范围第3项之反射型液晶显示元件之 反射板,其中: 来自前述复数种领域之极大与极小绕射角大致重 叠。 6.如申请专利范围第3项之反射型液晶显示元件之 反射板,其中: 前述元件之配列系规则的。 7.如申请专利范围第4项之反射型液晶显示元件之 反射板,其中: 前述元件之配列系具有周期的。 8.如申请专利范围第1或2项之反射型液晶显示元件 之反射板,其中: 前述复数种领域系在元件之配列或元件之形状具 有各向异向性,而且,于各领域中其各向异向性之 方位为不同者。 9.如申请专利范围第1或2项之反射型液晶显示元件 之反射板,包含有彩色滤光片,而该彩色滤光片具 有控制来自前述复数种领域之绕射光之透射特性 。 10.一种反射板,系具有一设置有复数由感光性树脂 材料构成之柱状体熔融变形而得之凸部的基板,及 一被覆前述凸部之光反射性薄膜者, 又,前述感光性树脂材料具有一高宽比-平均倾斜 角特性,该特性系将连接前述凸部底面外周缘上之 一定点与凸部顶点之直线及凸部底面形成的角作 为凸部之平均倾斜角,且使得在将前述柱状体之形 状以规定的两个代表尺寸之比表示之高宽比自接 近0之値渐渐增加时,平均倾斜角经过上升变化过 程达到极大値,接着经过下降过程收歛至一定値者 ,而,前述复数凸部之平均倾斜角作为在前述高宽 比-平均倾斜角特性之前述收歛値。 11.如申请专利范围第10项之反射板,其中: 前述高宽比系前述柱状体之高度对宽度之比。 12.一种反射板之制造方法,包含有: 第一形成步骤,系在基板上形成由薄膜部份与复数 柱状体部份构成之凹凸状热可塑性树脂层; 热处理步骤,系藉在形成前述复数柱状体部份之基 板施行热处理,使柱状体部份熔融变形,以形成具 有一定平均倾斜角之复数凸部;以及 第二形成步骤,系在前述凸部上形成光反射性薄膜 , 又,前述树脂材料具有高宽比-平均倾斜角特性,该 特性系将连接前述凸部底面外周缘上之一定点与 凸部顶点之直线及凸部底面形成的角作为凸部之 平均倾斜角,且使得在将前述柱状体之形状以规定 之两个代表尺寸之比表示之高宽比自接近0之値渐 渐增加时,平均倾斜角经过上升变化过程达到极大 値,接着经过下降过程收歛至一定値者, 而,在前述树脂层形成步骤中得到之前述柱状体高 宽比之设定値作成比前述开始收歛至一定値之起 始点更大之高宽比。 13.一种反射板之制造方法,该反射板系具有使由感 光性树脂材料构成之柱状体熔融变形而得之复数 凸部者,该制造方法包含有: 涂敷步骤,系在基板上涂敷感光性树脂材料; 曝光步骤,系在前述涂敷步骤中得到之感光性树脂 材膜,经由具有已形成一定形状之图案的遮光部之 光罩来照射光; 显影步骤,系将业经光照射之前述感光性树脂膜显 影,以形成残膜及复数柱状体; 热处理步骤,系藉在形成有前述复数柱状体之基板 ,施行热处理,使柱状体熔融变形,以形成具有一定 平均倾斜角之复数弯曲状凸部;以及 形成步骤,系在前述凸部上形成光反射性薄膜, 又,前述感光性树脂材料具有一高宽比-平均倾斜 角特性,该特性系将连接前述凸部底面外周缘上之 一定点与凸部顶点之直线及凸部底面形成之角作 为凸部之平均倾斜角,且使在将以规定柱状体形状 之两个代表尺寸之比表示的高宽比自接近0之値渐 渐增加时,具有平均倾斜角经过上升变化过程达到 极大値,接着经过下降过程如收歛至一定値者, 而,将前述显影步骤中得到之前述柱状体高宽比之 设定値作成比开始收歛至前述一定値之起始点更 大。 14.如申请专利范围第13项反射板之制造方法,其中: 前述感光性树脂材料系低光阻剂材料。 15.如申请专利范围第13项反射板之制造方法,其中: 前述高宽比-平均倾斜角特性具有使加热柱状体之 加热温度变高时,平均倾斜角之收歛値变化至较小 値,反之使加热温度变低时,平均倾斜角之收歛値 变化至较大値的性质, 而,前述热处理步骤中,加热温度系为对应于凸部 之前述一定平均倾斜角之加热温度。 16.如申请专利范围第13项反射板之制造方法,其中: 前述高宽比-平均倾斜角特性具有使前述残膜之厚 度变大时,平均倾斜角之收歛値变化至较小値,使 残膜之厚度变小时,平均倾斜角之收歛値变化至较 大値的性质, 而,为了使前述显影步骤后取得的残膜之厚度成为 对应于凸部之前述一定平均倾斜角之残膜之厚度, 可调整在前述曝光步骤中朝感光性树脂之曝光量 。 17.如申请专利范围第13项反射板之制造方法,其中: 前述高宽比在0.05以上、0.7以下之范围。 18.如申请专利范围第13项反射板之制造方法,其中: 前述涂敷步骤其中感光性树脂膜之膜厚在1微米以 上、10微米以下之范围。 19.如申请专利范围第13项反射板之制造方法,其中: 在基板上涂敷感光性树脂材料之涂敷步骤之前,具 有将与前述感光性树脂材料同一材料之感光性树 脂材料成膜于基板上之步骤。 20.如申请专利范围第13项反射板之制造方法,其中: 在基板上涂敷感光性树脂材料之涂敷步骤之前,具 有将与前述感光性树脂材料不同材料之感光性树 脂材料成膜于基板上之步骤。 21.如申请专利范围第12项反射板之制造方法,其中: 前述高宽比系前述柱状体之高度对宽度之比。 22.一种反射型液晶显示元件之制造方法,该反射型 液晶显示元件包含有反射板,对向于反射板设置之 基板及夹在反射板及基板间之液晶显示层,其特征 在于:前述反射板系藉如申请专利范围第12项之方 法所制造者。 23.一种绕射栅型反射板,系包含设置有多数凸部的 基板,该等凸部系同心状或并列状的配列之复数凸 部,且系由感光性树脂材料构成同心状或并列状配 列之柱状体熔融变形而得者,以及被覆前述凸部的 光反射性薄膜,并具有藉反射绕射将入射光分光之 特性者, 又,前述感光性树脂材料具有一高宽比-平均倾斜 角特性,该特性系将连接前述凸部底面外周缘上之 一定点与凸部顶点之直线与凸部底面形成的角作 为凸部之平均倾斜角,且使在将前述柱状体之形状 以规定的两个代表尺寸之比表示之高宽比自接近0 之値渐渐增加时,平均倾斜角经过上升变化过程达 到极大値,接着经过下降过程收歛至一定値者, 在,前述复数凸部之平均倾斜角为在前述高宽比- 平均倾斜角特性中之前述收歛値。 24.如申请专利范围第23项之绕射栅型反射板,其中: 前述高宽比系前述柱状体之高度对宽度之比。 25.一种绕射栅型反射板之制造方法,该绕射栅型反 射板系具有由感光性树脂材料构成之柱状体熔融 变形而得之复数凸部,且具有藉反射绕射将入射光 分光之特性者,该制造方法包含有: 涂敷步骤,系在基板上涂敷感光性树脂材料; 曝光步骤,系在藉前述涂敷步骤得到之感光性树脂 材膜,经由具有已形成有一定形状图案之遮光部之 光罩来照射光; 显影步骤,系将业经光照射之前述感光性树脂显影 ,以形成残膜及复数同心状或并列状配列之柱状体 ; 热处理步骤,系藉在形成前述复数柱状体之基板施 行热处理,使柱状体熔融变形,以形成具有同心状 或并列状配列之一定平均倾斜角之复数凸部;以及 形成步骤,系在前述凸部上形成光反射性薄膜, 又,前述感光性树脂材料具有一高宽比-平均倾斜 角特性,该特性系将连接前述凸部底面外周缘上一 定点与凸部顶点之直线及凸部底面形成的角作为 凸部之平均倾斜角,且使在将以规定前述柱状体形 状之两个代表尺寸比表示之高宽比近0旁之値渐渐 增加时,平均倾斜角经过上升变化过程达到极大値 ,接着经过下降过程收歛至一定値者, 而,前述显影步骤中取得之高宽比设定値为比开始 收歛至前述一定値之起始点更大之高宽比。 26.如申请专利范围第25项绕射栅型反射板之制造 方法,其中: 前述高宽比为前述柱状体之高度对宽度之比。 27.一种反射型液晶显示元件之制造方法,该反射型 液晶显示元件包含有反射板,对向于反射板设置之 基板及夹在反射板及基板间之液晶显示层,其特征 在于: 前述反射板系藉如申请专利范围第25项之方法所 制造者。 图式简单说明: 第1图是有关于实施形态1-1之反射板自斜面所视之 图; 第2(a)-(f)图系为说明制造第1图反射板之步骤图; 第3图系为说明散射特性测定之图; 第4图系第1图反射板之散射特性表示图; 第5图系比较例1反射板之散射特性表示图; 第6图系有关于实施形态1-2之反射板自斜面所视之 图; 第7图系第6图反射板之散射特性表示图; 第8图系比较例2之反射板散射特性表示图; 第9图系有关于实施形态1-3之反射板自斜面所视之 图; 第10图系有关于实施形态1-4之反射板自斜面所视 之图; 第11图系为说明满足式3、4、5决定dR、dG、dB之一 例图; 第12图系有关于实施形态1-5之反射板自斜面所视 之图; 第13图系有关于实施形态1-6之反射板自斜面所视 之图; 第14图为实施形态2-1之液晶显示元件之剖面图; 第15图表示含有色素的光阻剂之膜厚与透射率之 关系曲线图; 第16(a)-(b)图表示在本实施形态2-1凹凸构造部制造 方法之原理图; 第17图系感光性高分子之光吸收率与平均倾斜角 之关系表示图; 第18图为实施形态2-3之液晶显示元件剖面图; 第19图为实施形态2-5之液晶显示元件剖面图; 第20(a)-(b)图表示本实施形态2-5凹凸构造部制造方 法之原理图; 第21(a)-(b)图系由感光性高分子256A、256B形成两层 等之多层构成之剖面图; 第22图为实施形态2-6液晶显示元件阵列基板之构 成图; 第23图表示实施形态2-7液晶显示元件之画素构成; 第24(a)-(b)图系曝光变成绕射光而照射感光性抗蚀 膜状态表示图; 第25(a)-(b)图表示本实施形态2-7凹凸构造部之制造 方法原理图; 第26(a)-(b)图表示本发明基板之制造装置原理图; 第27图系使用于实施形态2-9之曝光装置原理图; 第28图系有关于实施形态3-1反射板之主要部份剖 面图; 第29图系有关于实施形态3-1反射板之平面图; 第30图为凸部304之扩大剖面图; 第31图为凸部304之扩大斜视图; 第32图表示有关于实施形态3-1反射板之制造步骤 流程图; 第33(a)-(e)图表示有关于实施形态3-1反射板之制造 步骤剖面图; 第34图表示高宽比-平均倾斜角特性曲线图; 第35图表示按照残膜厚及加热温度变化之高宽比 -平均倾斜角特性曲线图; 第36(a)-(c)图系为说明习知例与在本发明因加工误 差影响不同之图; 第37图系使用实施形态3-1之反射板之反射型液晶 显示元件主要部份剖面图; 第38(a)-(e)图表示有关于实施形态3-2反射板之制造 步骤剖面图; 第39图为低(高宽比)抗蚀膜之特性图; 第40图为有关于实施形态3-3反射板之主要部份平 面图; 第41图为第40图之X-X矢视剖面; 第42(a)-(f)图表示习知制造方法之步骤剖面图。 |
