| 发明名称 | 薄膜制造装置 | ||
| 摘要 | 一种薄膜制造装置，包括：真空槽；上述真空槽内的支撑体；在上述支撑体上形成薄膜的薄膜形成装置；以及在上述薄膜上形成图形而在上述薄膜的形成之前在上述支撑体上施加构图材料的构图材料施加装置，上述支撑体具有相对于上述构图材料施加装置移动的机构，上述构图材料施加装置具有：使构图材料的蒸汽喷出到上述支撑体上的喷嘴孔，上述喷嘴孔的形状为与上述支撑体相对移动的方向相比，在与其正交的方向上较长。 | ||
| 申请公布号 | CN100370058C | 申请公布日期 | 2008.02.20 |
| 申请号 | CN200410071690.6 | 申请日期 | 1998.03.12 |
| 申请人 | 松下电器产业株式会社 | 发明人 | 本田和义;越后纪康;小田桐优;砂流伸树 |
| 分类号 | C23C14/12(2006.01);C08J5/18(2006.01);H01L27/13(2006.01) | 主分类号 | C23C14/12(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 刘宗杰;叶恺东 |
| 主权项 | 1.一种薄膜制造装置，包括：真空槽；上述真空槽内的支撑体；在上述支撑体上形成薄膜的薄膜形成装置；以及为了在上述薄膜上形成图形而在上述薄膜的形成之前在上述支撑体上施加构图材料的构图材料施加装置，上述支撑体具有相对于上述构图材料施加装置移动的机构，该薄膜制造装置的特征在于：上述构图材料施加装置具有：使构图材料的蒸汽喷出到上述支撑体上的喷嘴孔，上述喷嘴孔的形状是这样的，与上述支撑体相对移动的方向相比，在与其正交的方向上较长。 | ||
| 地址 | 日本大阪府门真市 | ||