发明名称 半导体制造用处理管
摘要 本外观设计产品整体透明,内部可见。
申请公布号 CN300748574D 申请公布日期 2008.02.20
申请号 CN200730007769.7 申请日期 2007.04.09
申请人 东京毅力科创株式会社 发明人 井上久司;远藤笃史
分类号 23-03 主分类号 23-03
代理机构 北京纪凯知识产权代理有限公司 代理人 龙 淳
主权项
地址 日本东京都