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经营范围
发明名称
半导体制造用处理管
摘要
本外观设计产品整体透明,内部可见。
申请公布号
CN300748574D
申请公布日期
2008.02.20
申请号
CN200730007769.7
申请日期
2007.04.09
申请人
东京毅力科创株式会社
发明人
井上久司;远藤笃史
分类号
23-03
主分类号
23-03
代理机构
北京纪凯知识产权代理有限公司
代理人
龙 淳
主权项
地址
日本东京都
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