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降低钟罩清洁频率之方法
摘要
一种降低钟罩清洁频率之方法,包含在一电浆清洗铜还原制程之中,使用一仿真晶圆进行反应,并提高仿真晶圆反应时之反应压力、反应时间,以及反应温度,以减少一电浆清洗反应室中之一微粒群组与一钟罩间之附着力,使微粒群组与钟罩脱离,减少微粒群组黏着于钟罩上之情形,进而降低铜还原制程中钟罩之清洁频率,以提升电浆清洗反应室之处理效率。
申请公布号
TW200809908
申请公布日期
2008.02.16
申请号
TW095129082
申请日期
2006.08.08
申请人
应用材料股份有限公司
发明人
魏琮商;顾全成
分类号
H01L21/00(2006.01);B08B13/00(2006.01)
主分类号
H01L21/00(2006.01)
代理机构
代理人
蔡坤财;李世章
主权项
地址
美国
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