发明名称 |
单结晶SiC及其制造方法与单结晶SiC之制造装置SINGLE CRYSTAL SIC, METHOD AND DEVICE FOR PRODUCING THE SAME |
摘要 |
本发明旨在提供一种单结晶SiC的制造方法,此种方法可避免多结晶SiC的混入,且使高品质的单结晶SiC成长为磊晶;以及依据该方法而得到的高品质单结晶SiC。除此之外,本发明之另一目的系在提供一种单结晶SiC的制造装置,可避免多结晶SiC的混入,且使高品质的单结晶SiC成长为磊晶。本发明之单结晶SiC的制造方法,其特征在于:包含以下两个步骤:将固定有SiC种单结晶之基座,与用以从外部供应单结晶SiC制造用原料的原料供应管,设置在坩埚内的步骤;及在充填有高温环境气体的该坩埚内,将该单结晶SiC制造用原料与携载气体一起,经由原料供应管供应,以使该单结晶SiC成长的步骤;此外,在将该原料供应管与该SiC种单结晶之间的距离设为L(mm);且将该携载气体的线速度设为S(mm/sec)时,满足L/S(sec)≦3的条件。 |
申请公布号 |
TW200809019 |
申请公布日期 |
2008.02.16 |
申请号 |
TW096116628 |
申请日期 |
2007.05.10 |
申请人 |
信越化学工业股份有限公司 |
发明人 |
碇真宪;金庭彻;阿部孝夫 |
分类号 |
C30B29/36(2006.01);C30B1/10(2006.01) |
主分类号 |
C30B29/36(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
周良谋;周良吉 |
主权项 |
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地址 |
日本 |