发明名称 单结晶SiC及其制造方法与单结晶SiC之制造装置SINGLE CRYSTAL SIC, METHOD AND DEVICE FOR PRODUCING THE SAME
摘要 本发明旨在提供一种单结晶SiC的制造方法,此种方法可避免多结晶SiC的混入,且使高品质的单结晶SiC成长为磊晶;以及依据该方法而得到的高品质单结晶SiC。除此之外,本发明之另一目的系在提供一种单结晶SiC的制造装置,可避免多结晶SiC的混入,且使高品质的单结晶SiC成长为磊晶。本发明之单结晶SiC的制造方法,其特征在于:包含以下两个步骤:将固定有SiC种单结晶之基座,与用以从外部供应单结晶SiC制造用原料的原料供应管,设置在坩埚内的步骤;及在充填有高温环境气体的该坩埚内,将该单结晶SiC制造用原料与携载气体一起,经由原料供应管供应,以使该单结晶SiC成长的步骤;此外,在将该原料供应管与该SiC种单结晶之间的距离设为L(mm);且将该携载气体的线速度设为S(mm/sec)时,满足L/S(sec)≦3的条件。
申请公布号 TW200809019 申请公布日期 2008.02.16
申请号 TW096116628 申请日期 2007.05.10
申请人 信越化学工业股份有限公司 发明人 碇真宪;金庭彻;阿部孝夫
分类号 C30B29/36(2006.01);C30B1/10(2006.01) 主分类号 C30B29/36(2006.01)
代理机构 代理人 周良谋;周良吉
主权项
地址 日本