发明名称 |
设置凹凸构造之光学薄膜的制造方法、光学薄膜、线栅偏光子及相位差薄膜 |
摘要 |
本发明系提供一种,使以大面积设置微细凹凸构造之薄型薄片于高精度以高速制造之设置凹凸构造之光学薄膜的制造方法,及以该制造方法所制造之生产性,均匀性高的光学薄膜,线栅偏光子,及相位差薄膜。此设置凹凸构造之光学薄膜的制造方法,系由下列步骤所成:在设置凹凸构造之无端皮带状或辊状塑模涂布使第1树脂溶解于溶剂中之溶液,在塑模上形成树脂溶液层之步骤;在该树脂溶液层中之溶剂完全乾燥之前,将该树脂溶液层,与含有吸收该树脂溶液中溶剂之第2树脂的薄膜支持体予以贴合之步骤;在该树脂溶液层与该薄膜支持体所贴合之光学薄膜中之溶剂完全乾燥之前,使该光学薄膜自该塑模剥离之步骤,所成为其特征者。 |
申请公布号 |
TW200808514 |
申请公布日期 |
2008.02.16 |
申请号 |
TW096114837 |
申请日期 |
2007.04.26 |
申请人 |
柯尼卡美能达精密光学股份有限公司 |
发明人 |
佐藤彰;岩垣贤;佐藤浩一;大森滋人;宫泽一宏;村上隆;小山博和;久保伸夫;田公志;冈繁树 |
分类号 |
B29C41/24(2006.01);B29C41/30(2006.01);C08J5/18(2006.01);G02B5/30(2006.01) |
主分类号 |
B29C41/24(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
林志刚 |
主权项 |
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地址 |
日本 |