包括具有双温度区之静电吸座的基材支撑件

摘要

在此公开了一种在基板处理腔室中用于容纳基板的静电吸盘，其包括一陶瓷圆盘，该陶瓷圆盘具有一基板容纳表面和一相对的背面(其上具有多个间隔的台面)。一电极嵌入在陶瓷圆盘中以产生静电力以保持基板。位于陶瓷圆盘的周边和中心部分的加热线圈允许对陶瓷圆盘的中心和周边部分进行独立的温度控制。通过具有可容纳空气的凹槽的底座支撑吸盘。吸盘和底座可协同运作以允许在腔室中调整基板的温度分布。