发明名称 用于覆晶薄膜之铜箔积层板
摘要 一种用于覆晶薄膜之铜箔积层板,其包括一铜箔与至少一聚醯亚胺膜层叠于铜箔上,其中聚醯亚胺膜与铜箔之接触包含至少一添加剂选自于由氮唑基化合物、聚矽氧烷基化合物、与聚磷酸基化合物组成之群组。此用于覆晶薄膜之铜箔积层板在高温下镀锡于铜箔时,可防止介于铜箔与聚醯亚胺膜之间的分层问题,且在IC晶粒接合的温度与压力下具有良好的黏着性。
申请公布号 TW200810649 申请公布日期 2008.02.16
申请号 TW096104044 申请日期 2007.02.05
申请人 LG化学公司 发明人 金炳男;宋宪植;朴谆龙;沈正真
分类号 H05K3/38(2006.01) 主分类号 H05K3/38(2006.01)
代理机构 代理人 吴冠赐;杨庆隆;苏建太
主权项
地址 韩国