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发明名称
曝光设备
摘要
一种将原件之图案曝光于基板上之曝光设备包含:一聚光器光学系统,其组构成可将来自一光源之光线分成复数光束,以在不同位置将该复数光束聚集在该原件上,并使照明该原件的数光束之每一光束的中心部分,比在关于该原件之傅立叶转换平面的周边较暗;及一投射光学系统,其组构成可将让原件之图案投射于该基板上。
申请公布号
TW200809919
申请公布日期
2008.02.16
申请号
TW096115379
申请日期
2007.04.30
申请人
佳能股份有限公司
发明人
大久保彰律;铃木章义
分类号
H01L21/027(2006.01)
主分类号
H01L21/027(2006.01)
代理机构
代理人
林志刚
主权项
地址
日本
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