包含有含醯胺酸之矽的抗蚀下层膜形成组成物

主权项

一种微影术用抗蚀下层膜形成组成物，其为含有水解性有机矽烷、其水解物或其水解缩合物或该等之混合物作为矽烷化合物之微影用抗蚀下层膜形成组成物，该矽烷化合物为包括含有有机基之矽烷化合物，该有机基系为在其分子中包含醯胺键、与羧酸部分或羧酸酯部分或其二者。