发明名称 新颖共聚物及光阻组成物
摘要 本发明包含聚合物及包括作为树脂黏结剂成份之聚合物之光阻组成物。本发明聚合物含有羟金刚烷基官能性。本发明光阻剂包含化学放大型正作用光阻剂其可于短波长(例如次-200nm,特别是193nm)下有效地成像。
申请公布号 TWI293402 申请公布日期 2008.02.11
申请号 TW091103266 申请日期 2002.02.25
申请人 希普列公司 发明人 乔治G巴克雷;劳勃J卡文那
分类号 G03F7/004(2006.01) 主分类号 G03F7/004(2006.01)
代理机构 代理人 洪武雄 台北市中正区博爱路35号9楼;陈昭诚 台北市中正区博爱路35号9楼
主权项 1.一种光阻组成物,包括: (a)光酸产生剂化合物;以及 (b)聚合物,包括羟金刚烷基部分、经聚合之原冰片 烯基、及至少二不同之重复单元,各该重复单元具 有光酸不稳定基。 2.如申请专利范围第1项之光阻组成物,其中该聚合 物包括内酯基。 3.如申请专利范围第1项之光阻组成物,其中该聚合 物包括经聚合之丙烯酸酯基,该经聚合之丙烯酸酯 基包括一或多个光酸不稳定部分。 4.如申请专利范围第1项之光阻组成物,其中该聚合 物包括一或多个部分。 5.如申请专利范围第1项之光阻组成物,其中该聚合 物为三聚物。 6.如申请专利范围第1项之光阻组成物,其中该聚合 物为四聚物。 7.如申请专利范围第1项之光阻组成物,其中该聚合 物实质上不含芳基。 8.如申请专利范围第1项之光阻组成物,其中该聚合 物完全不含芳基。 9.一种光阻组成物,包括: (a)光酸产生剂化合物;以及 (b)聚合物,包括羟金刚烷基部分、经聚合之原冰片 烯基、及内酯基。 10.如申请专利范围第9项之光阻组成物,其中该聚 合物至少实质上不含芳基。 11.如申请专利范围第9项之光阻组成物,其中该聚 合物包括经聚合之丙烯酸酯基,该经聚合之丙烯酸 酯基包括一或多个光酸不稳定部分。 12.如申请专利范围第9项之光阻组成物,其中该聚 合物包括一或多个部分。
地址 美国