| 主权项 |
1.一种微透镜之制造方法,至少包含: 提供一凸面光阻表面; 形成一透镜铸模于该凸面光阻表面上; 从该透镜铸模去除该凸面光阻表面; 形成一微透镜于该透镜铸模中;以及 从该微透镜去除该透镜铸模。 2.如申请专利范围第1项所述之微透镜之制造方法, 其中形成该微透镜于该透镜铸模中之步骤至少包 含形成一氧化物于该透镜铸模中。 3.如申请专利范围第1项所述之微透镜之制造方法, 其中形成该微透镜于该透镜铸模中之步骤至少包 含形成一旋涂玻璃于该透镜铸模中。 4.如申请专利范围第1项所述之微透镜之制造方法, 其中从该透镜铸模去除该凸面光阻表面之步骤至 少包含从该透镜铸模蚀刻该凸面光阻表面。 5.如申请专利范围第1项所述之微透镜之制造方法, 其中从该微透镜去除该透镜铸模之步骤至少包含 从该微透镜蚀刻该透镜铸模。 6.如申请专利范围第1项所述之微透镜之制造方法, 其中形成该透镜铸模于该凸面光阻表面上之步骤 至少包含沉积一金属氮化物于该凸面光阻表面上 。 7.如申请专利范围第6项所述之微透镜之制造方法, 其中该金属氮化物系选自于由氮化钛(TiN)及氮化 钛铝(TiAlN)所组成之一族群。 8.如申请专利范围第1项所述之微透镜之制造方法, 其中提供该凸面光阻表面之步骤至少包含: 提供一基材; 提供一光阻涂布层于该基材上;以及 利用紫外光固化该光阻涂布层。 9.一种微透镜之制造方法,至少包含: 提供一基材;提供一开口于该基材中; 形成一光阻涂布层于该基材及该开口上; 提供一凸面光阻表面于该光阻涂布层上; 形成一透镜铸模于该凸面光阻表面上; 从该透镜铸模去除该凸面光阻表面; 形成一微透镜于该透镜铸模中;以及 从该微透镜去除该透镜铸模。 10.如申请专利范围第9项所述之微透镜之制造方法 ,其中形成该微透镜于该透镜铸模中之步骤至少包 含形成一氧化物于该透镜铸模中。 11.如申请专利范围第9项所述之微透镜之制造方法 ,其中形成该微透镜于该透镜铸模中之步骤至少包 含形成一旋涂玻璃于该透镜铸模中。 12.如申请专利范围第9项所述之微透镜之制造方法 ,其中从该透镜铸模去除该凸面光阻表面之步骤至 少包含: 提供至少一蚀刻通道开口于该基材中;以及 藉由导入一蚀刻剂穿过该至少一蚀刻通道开口,以 从该透镜铸模蚀刻该凸面光阻表面。 13.如申请专利范围第9项所述之微透镜之制造方法 ,其中从该微透镜去除该透镜铸模之步骤至少包含 利用一湿蚀刻制程从该微透镜蚀刻该透镜铸模。 14.如申请专利范围第9项所述之微透镜之制造方法 ,其中形成该透镜铸模于该凸面光阻表面上之步骤 至少包含沉积一金属氮化物于该凸面光阻表面上 。 15.如申请专利范围第14项所述之微透镜之制造方 法,其中该金属氮化物系选自于由氮化钛及氮化钛 铝所组成之一族群。 16.如申请专利范围第9项所述之微透镜之制造方法 ,其中提供该凸面光阻表面于该光阻涂布层之步骤 至少包含利用紫外光固化该光阻涂布层。 17.一种微透镜,至少包含:实质上透明之一透镜体, 该透镜体至少包含一非平坦、凸面表面并具有实 质上200微米之一直径。 18.如申请专利范围第17项所述之微透镜,其中该透 镜体至少包含一氧化物。 19.如申请专利范围第17项所述之微透镜,其中该透 镜体至少包含一旋涂玻璃。 20.如申请专利范围第17项所述之微透镜,更至少包 含从该透镜体延伸出一透镜边缘。 21.一种微透镜之制造方法,至少包含: 提供一基材; 提供一牺牲光阻层于该基材上; 藉由对该牺牲光阻层提供一能量处理,形成一凸面 牺牲光阻表面于该牺牲层上; 形成一透镜铸模于该凸面牺牲光阻表面上; 从该透镜铸模去除该凸面牺牲光阻表面;以及 形成一微透镜于该透镜铸模中。 图式简单说明: 第1A图至第1E图系绘示根据习知方法在基材上连续 制造微透镜的之剖面图; 第2A图至第2G图系绘示根据本发明之方法在基材上 连续制造微透镜的之剖面图; 第3图系绘示根据本发明之方法在基材上制造透镜 铸模矩阵之剖面图;以及 第4图系概述根据本发明之微透镜的制造方法之连 续制程步骤的流程图。 |
