蚀刻组成物及蚀刻方法

摘要

一种蚀刻组成物，其含有由乙酸、丙酸、丁酸、丁二酸、柠檬酸、乳酸、苹果酸、酒石酸、丙二酸、顺丁烯二酸、戊二酸、乌头酸、1,2,3-丙三羧酸及此等之铵盐所组成的群组中所选出之1种以上的有机羧酸化合物；聚磺酸化合物；及水。一种蚀刻方法，其藉由该蚀刻组成物而蚀刻以氧化锌为主要成分之导电膜。