| 主权项 |
1.一种用以监测图案尺寸之方法,该方法系用于具 有一透明层以及一非透明图案之物件,该透明层系 裸露于该图案,该非透明图案系层压于该透明层上 ,该方法包含: 投射一第一光束于该图案上; 侦测一第二光束,该第二光束系该第一光束通过裸 露于该图案之该透明层所产生,或是该第一光束由 该图案之非透明层反射所产生; 由测得之第二光束获得一预先设定属性之値; 监测该値之变化,用以监别该图案之尺寸。 2.如申请专利范围第1项所述之用以监测图案尺寸 之方法,其中该监测包含将该第二光束之预先设定 属性之値除以该第一光束之预先设定属性之値,而 得到一比率。 3.如申请专利范围第2项所述之用以监测图案尺寸 之方法,其中该监测包含监测该比率之变化,用以 监别该图案之尺寸。 4.如申请专利范围第1项所述之用以监测图案尺寸 之方法,其另包含: 侦测一第三光束,该第三光束系该第一光束由该图 案之该透明层偏斜所产生;并且 比较该第三光束与该第一光束,用以决定其间之相 位。 5.如申请专利范围第1项所述之用以监测图案尺寸 之方法,其另包含: 侦测一与该第一光束同相的第三光束,绕过该透明 层或非透明层; 比较该第三光束与该第二光束,用以决定其间之相 位。 6.如申请专利范围第1项所述之用以监测图案尺寸 之方法,其另包含: 提供一具有已知尺寸之参照图案,其中该非透明层 系被完全移除而裸露出该透明层; 投射一与该第一光束同相之参照光束至该参照图 案; 侦测一第三光束,该第三光束系该第一光束通过该 参照图案中的透明层所产生,或是该第一光束由该 参照图案之非透明层反射所产生; 由该第三光束获得一预先设定属性之値;及 比较该第三光束之预先设定属性之値与该第二光 束之预先设定属性之値,用以决定该图案之尺寸。 7.如申请专利范围第1项所述之用以监测图案尺寸 之方法,其另包含: 提供一具有已知尺寸之参照图案,其中该透明层系 完全被该非透明层覆盖; 投射一与该第一光束同相之参照光束至该参照图 案; 侦测一第三光束,该第三光束系该第一光束通过该 参照图案中的透明层所产生,或是该第一光束由该 参照图案之非透明层反射所产生; 由该第三光束获得一预先设定属性之値;及 比较该第三光束之预先设定属性之値与该第二光 束之预先设定属性之値,用以决定该图案之尺寸。 8.如申请专利范围第1项所述之用以监测图案尺寸 之方法,其中该第一与第二光束系被投射与接收于 该物件之同一侧边。 9.如申请专利范围第1项所述之用以监测图案尺寸 之方法,其中该第一与第二光束系被投射与接收于 该物件之相反侧边。 10.一种用以监测图案尺寸之系统,该系统系用于具 有一透明层以及一非透明图案之物件,该透明层系 裸露于该图案,该非透明图案系层压于该透明层上 ,该系统包含: 一能量源,用以投射一第一光束于该图案上; 一第一侦测器,用以侦测一第二光束,该第二光束 系该第一光束通过裸露于该图案之该透明层所产 生,或是该第一光束由该图案之非透明层反射所产 生; 一资料处理器,用以由测得之第二光束获得一预先 设定属性之値,使得该値之变化可被监测,用以监 别该图案之尺寸。 11.如申请专利范围第10项所述之用以监测图案尺 寸之系统,其中该资料处理器将该第二光束之预先 设定属性之値除以该第一光束之预先设定属性之 値,而得到一比率。 12.如申请专利范围第10项所述之用以监测图案尺 寸之系统,其另包含一第二侦测器,用以侦测一第 三光束,该第三光束系该第一光束由该图案之该透 明层偏斜所产生。 13.如申请专利范围第10项所述之用以监测图案尺 寸之系统,其另包含一第二侦测器,用以侦测一与 该第一光束同相的第三光束,绕过该透明层或非透 明层。 14.如申请专利范围第10项所述之用以监测图案尺 寸之系统,其中该物件包含一具有已知尺寸之参照 图案,其中该非透明层系被完全移除而裸露出该透 明层,或者其中该透明层系完全被该非透明层覆盖 。 15.如申请专利范围第10项所述之用以监测图案尺 寸之系统,其中该能量源与该第一侦测器系设于该 物件之同一侧边。 16.如申请专利范围第15项所述之用以监测图案尺 寸之系统,其另包含一反射装置设于该物件相对于 该能量源与该第一侦测器之相反侧边。 17.一种用以监测图案尺寸之方法,该方法系用于具 有一透明层以及一非透明图案之物件,该透明层系 裸露于该图案,该非透明图案系层压于该透明层上 ,该方法包含: 投射一第一光束于该图案上; 侦测一第二光束,该第二光束系该第一光束通过裸 露于该图案之该透明层所产生,或是该第一光束由 该图案之非透明层反射所产生; 由该第一光束与第二光束获得一预先设定属性之 値; 将该第二光束之预先设定属性之値除以该第一光 束之预先设定属性之値,而得到一比率; 监测该値之变化,用以监别该图案之尺寸。 18.如申请专利范围第17项所述之用以监测图案尺 寸之方法,其另包含: 侦测一第三光束,该第三光束系该第一光束由该图 案之该透明层偏斜所产生;并且 比较该第三光束与该第一光束,用以决定其间之相 位。 19.如申请专利范围第17项所述之用以监测图案尺 寸之方法,其另包含: 侦测一与该第一光束同相的第三光束,绕过该透明 层或非透明层; 比较该第三光束与该第二光束,用以决定其间之相 位差异。 20.如申请专利范围第17项所述之用以监测图案尺 寸之方法,其另包含: 提供一具有已知尺寸之参照图案,其中该非透明层 系被完全移除而裸露出该透明层,或者其中该透明 层系完全被该非透明层覆盖; 投射一与该第一光束同相之参照光束至该参照图 案; 侦测一第三光束,该第三光束系该第一光束通过该 参照图案中的透明层所产生,或是该第一光束由该 参照图案之非透明层反射所产生; 由该第三光束获得一预先设定属性之値;及 比较该第三光束之预先设定属性之値与该第一光 束之预先设定属性之値,用以决定该图案之尺寸。 21.一种用以监测图案尺寸之方法,该方法系用于至 少有一非透明层以及具有透明图案之物件,该透明 图案系为镂空穿透非透明层之图案,该方法包含: 投射一第一光束于该图案上; 侦测一第二光束,该第二光束系该第一光束通过镂 空该非透明层所产生,或是该第一光束由该图案之 非透明层反射所产生; 由该第一光束与第二光束获得一预先设定属性之 値; 将该第二光束之预先设定属性之値除以该第一光 束之预先设定属性之値,而得到一比率; 监测该値之变化,用以监别该图案之尺寸。 22.如申请专利范围第21项所述之用以监测图案尺 寸之方法,其另包含:提供一具有已知尺寸之参照 图案,其中该透明层系镂空图案,或者其中非透明 图案系完全被该非透明层覆盖; 投射一与该第一光束同相之参照光束至该参照图 案; 侦测一第三光束,该第三光束系该第一光束通过该 参照图案中的镂空图案所产生,或是该第一光束由 该参照图案之非透明层反射所产生; 由该第三光束获得一预先设定属性之値;及 比较该第三光束之预先设定属性之値与该第一光 束之预先设定属性之値,用以决定该图案之尺寸。 图式简单说明: 第1图系绘示用于一习知量测方法或系统之具有交 叉符号图案之光罩之上视图与侧视图。 第2图系绘示根据本发明一实施例所使用之具有图 案之光罩的上视图与侧视图。 第3图系绘示根据本发明另一实施例所使用之光罩 的侧视图。 第4图系绘示根据本发明另一实施例所使用之光罩 的侧视图。 第5图系绘示根据本发明另一实施例所使用之光罩 的侧视图。 第6图系绘示根据本发明另一实施例所使用之光罩 的上视图与侧视图。 第7图系绘示根据本发明另一实施例所使用之半导 体光罩或晶圆之部分剖视图700。 第8图系绘示根据本发明另一实施例所使用之半导 体光罩或晶圆之部分剖视图800。 |
