| 发明名称 | 基板工作台以及热处理装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种基板工作台，具有高耐磨性并且不会发生剥离带电。在工作台主体(11)上形成的用于承载基板W的承载面(12)上，在通过压花加工而形成了给定的压花形状(E)之后，通过阳极氧化处理来形成无定形状态的氧化铝保护膜(A)。无定形状态的氧化铝保护膜(A)是致密并坚固的。因此，具有高耐磨性并能够基本上防止发生剥离带电。 | ||
| 申请公布号 | CN101114605A | 申请公布日期 | 2008.01.30 |
| 申请号 | CN200710127093.4 | 申请日期 | 2007.07.04 |
| 申请人 | 国立大学法人东北大学;株式会社未来视野;光洋热系统株式会社 | 发明人 | 大见忠弘;村冈佑介;宫路恭祥;长岛靖 |
| 分类号 | H01L21/68(2006.01);H01L21/00(2006.01);H01L21/324(2006.01) | 主分类号 | H01L21/68(2006.01) |
| 代理机构 | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人 | 高龙鑫 |
| 主权项 | 1.一种基板工作台，用于对基板进行承载，其特征在于，包括：工作台主体；无定形状态的氧化铝保护膜，其形成在所述工作台主体上的基板的承载面上。 | ||
| 地址 | 日本宫城县仙台市 | ||