发明名称 |
用于激光打标的掩模及激光打标装置 |
摘要 |
本发明公开了一种用于激光打标的掩模,包括凹腔片,该凹腔片具有镂空的标识,在该凹腔片的凹面镀有全反射膜;以及凸腔片,该凸腔片的凸面镀有全反射膜;并且所述凹腔片与凸腔片组成正支共焦非稳腔。这种掩模利用正支共焦非稳腔构成无源震荡腔室,进入腔室的激光做无源震荡,提高了激光能量的利用率。本发明还同时公开了一种安装了该掩模的激光打标装置。 |
申请公布号 |
CN100364781C |
申请公布日期 |
2008.01.30 |
申请号 |
CN200610033452.5 |
申请日期 |
2006.01.26 |
申请人 |
戈军 |
发明人 |
戈军 |
分类号 |
B41M5/24(2006.01);B44B7/00(2006.01);B23K26/18(2006.01) |
主分类号 |
B41M5/24(2006.01) |
代理机构 |
广州三环专利代理有限公司 |
代理人 |
郝传鑫 |
主权项 |
1.一种用于激光打标的掩模,其特征在于包括凹腔片,该凹腔片具有镂空的标识,在该凹腔片的凹面镀有全反射膜;以及凸腔片,该凸腔片的凸面镀有全反射膜;并且所述凹腔片与凸腔片组成正支共焦非稳腔。 |
地址 |
510600广东省广州市农林下路38号之二402房 |