| 发明名称 | 用于基于全局优化的无掩模光刻光栅化技术的方法和系统 | ||
| 摘要 | 一种用于确定光刻系统中的空间光调制器(SLM)像素的状态的方法和系统，所述光刻系统被配置用于印刷所需图案。所述方法包括：确定与将要由光刻系统印刷的图案的理想掩模相关联的衍射级；以及然后对SLM像素的状态进行配置以匹配与所需图案有关的已确定衍射级。 | ||
| 申请公布号 | CN101111850A | 申请公布日期 | 2008.01.23 |
| 申请号 | CN200680003428.5 | 申请日期 | 2006.01.27 |
| 申请人 | ASML控股股份有限公司 | 发明人 | 阿扎特·拉伯特;谢尔曼·伯特尼;温塞劳·塞布哈尔 |
| 分类号 | G06K9/00(2006.01);G02F1/1335(2006.01);G02F1/135(2006.01);G21K5/00(2006.01) | 主分类号 | G06K9/00(2006.01) |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 齐晓寰 |
| 主权项 | 1.一种用于确定光刻系统中的空间光调制器SLM像素的状态的方法，所述光刻系统被配置用于印刷所需图案，所述方法包括：确定与将要由光刻系统印刷的图案的理想掩模相关联的衍射级；以及对SLM像素的状态进行配置以匹配与所需图案有关的已确定衍射级。 | ||
| 地址 | 荷兰维德霍温 | ||