发明名称 对终点检测状态的监控方法
摘要 本发明公开了一种对终点检测状态的监控方法,通过预先生成与需要生产的产品有相同结构的光片作为测试片,在生产需要终点检测的研磨工艺产品之前,利用与产品一样的终点检测程序来检知该光片的终点,从而达到监控终点检测是否处于正常状态的目的。本发明可以正确的检知到研磨终点,保证产品的合格率。本发明不仅可以用于监控利用光学原理的终点检测方法,还可以用于监控利用温度变化、电流强度变化的终点检测方法。
申请公布号 CN101108471A 申请公布日期 2008.01.23
申请号 CN200610029247.1 申请日期 2006.07.21
申请人 上海华虹NEC电子有限公司 发明人 王海军;王贝易;程晓华;赵正元
分类号 B24B49/00(2006.01);H01L21/304(2006.01) 主分类号 B24B49/00(2006.01)
代理机构 上海浦一知识产权代理有限公司 代理人 顾继光
主权项 1.一种对终点检测状态的监控方法,其特征在于:在生产需要终点检测的研磨工艺产品之前,首先生成一种和产品有相同层间膜介质的光片,作为监控终点检测状态正常与否的测试片,研磨该光片,以检测化学机械抛光的终点检测本身是否处于正常状态;当状态正常时,再对产品进行研磨。
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