| 发明名称 | 1550纳米波长硅反射式偏振分束光栅 | ||
| 摘要 | 一种1550纳米波长硅反射式偏振分束光栅，TM偏振光和TE偏振光分别在0级和1级反射，光栅的占空比为0.5，该光栅的周期为344－412纳米、刻蚀深度为1.076－1.205微米时，偏振分束光栅的消光比大于100，可以实现将两种偏振模式相互垂直的光分为不同的方向出射。 | ||
| 申请公布号 | CN101109831A | 申请公布日期 | 2008.01.23 |
| 申请号 | CN200710045141.5 | 申请日期 | 2007.08.22 |
| 申请人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明人 | 周常河;冯吉军;王博;茹华一 |
| 分类号 | G02B5/18(2006.01);G02B27/28(2006.01);G02B5/30(2006.01) | 主分类号 | G02B5/18(2006.01) |
| 代理机构 | 上海新天专利代理有限公司 | 代理人 | 张泽纯 |
| 主权项 | 1.一种1550纳米波长硅反射式偏振分束光栅，该光栅的TM偏振光和TE偏振光分别在0级和1级反射，光栅的占空比为0.5，其特征在于该光栅的周期为344～412纳米、刻蚀深度为1.076～1.205微米，光栅的占空比为1/2。 | ||
| 地址 | 201800上海市800－211邮政信箱 | ||