| 主权项 |
1.一种抗蚀剂组成物,其特征为对100重量份(A)含有 30-95重量%聚乙烯苯酚与5-70重量%酚醛清漆树脂之 硷可溶性树脂而言,含有 (B1)0.1-10重量份藉由活性光线照射产生酸之光酸发 生剂, (B2)0.5-60重量份以藉由光产生的酸作为触媒以使硷 可溶性树脂交联的交联剂,及 (C)0.1-15重量份吸收活性光线之化合物, 且(B1)光酸发生剂对(B2)交联剂之重量比为1:1-1:30,(B 1)光酸发生剂系为至少一种选自盐、卤化有机 化合物、二叠氮化合物、,'-双(磺醯基)二 叠氮甲烷系化合物、-羰基-'-磺醯基二叠氮甲 烷系化合物、化合物、有机酸酯化合物、有机 酸醯胺化合物、以及有机酸醯亚胺化合物所成群, (B2)交联剂系为至少一种选自于烷氧基甲基化胺树 脂、烷氧基甲基化树脂、烷氧基甲基化密胺树 脂、烷氧基甲基化糖醛酸内酯树脂、烷氧基甲基 化甘树脂、烷氧醚化蜜胺树脂、苯并鸟粪胺树 脂、烷基醚化苯并鸟粪胺树脂、树脂、烷基醚 化树脂、胺基甲酸酯-甲醛树脂、甲阶酚醛树脂 型苯酚甲醛树脂、烷基醚化甲阶酚醛树脂型苯酚 甲醛树脂及环氧树脂者,以及(C)吸收活性光线之化 合物为至少一种选自于偶氮染料、未经取代或经 取代的苯甲醛与具有活性亚甲基之化合物脱水缩 合所得的苯乙烯衍生物、次甲基染料、偶氮次甲 基染料、柯卡明、呫吨酮、具芳基羟基之染料的 二叠氮化磺酸酯、双偶氮化合物、氰基乙烯基 苯乙烯系化合物、1-氰基-2-(4-二烷基胺基苯基)乙 烯类、对-(卤素取代苯基偶氮)-二烷基胺基苯类、 1-烷氧基-4-(4'-N,N-二烷基胺基苯基偶氮)苯类、 二烷基胺基化合物、1,2-二氰基乙烯、9-氰基、9 -基亚甲基丙二、N-乙基-3-唑基亚甲基丙二 、以及2-(3,3-二氰基-2-次丙烯基)-3-甲基-1,3-唑 所成群者。 2.如申请专利范围第1项之抗蚀剂组成物,其中酚醛 清漆树脂系使间甲酚与对甲酚以80:20-20:80之加入 重量比与甲醛脱水聚合所得的酚醛清漆树脂。 3.如申请专利范围第1项之抗蚀剂组成物,其中酚醛 清漆树脂系使含有间甲酚与对甲酚之甲酚类与3,5- 二甲基苯酚以50:50-80:20之加入重量比与甲醛脱水 聚合所得的酚醛清漆树脂。 4.如申请专利范围第1项之抗蚀剂组成物,其中(B1) 光酸发生剂与(B2)交联剂之重量比为1:4-1:30。 5.如申请专利范围第1项之抗蚀剂组成物,其更含有 使各成分均匀溶解或分散之足量有机溶剂。 6.一种图像形成方法,其特征为含有在基板上形成 由如申请专利范围第1至5项中任一项之抗蚀剂组 成物所成的抗蚀剂膜,且使该抗蚀剂膜曝光成图像 形状后,藉由硷显像液显像之步骤。 7.如申请专利范围第6项之图像形成法,其中于显像 后在基板上开始残留有抗蚀剂膜之曝光能量Eth之2 倍(2Eth)以下之曝光量曝光、显像后,截面形成倒锥 形抗蚀剂图像。 8.如申请专利范围第6项之图像形成法,其中于抗蚀 剂图像形成后更含有加热至70-120℃之温度且于抗 蚀剂图像照射紫外线之步骤。 图式简单说明: 第1图系表示藉由剥落法形成图像形成工程例之说 明图。 第2图系表示有机EL显示板之微细加工例之说明图 。 第3图系表示经微细加工的有机EL显示板例之截面 图。 第4图系表示截面为外伸状抗蚀剂图像之截面图。 |
