发明名称 | 处理装置 | ||
摘要 | 本发明系提供一种处理装置,其系可以于实用区域使用阀开度之际,使处理空间的环境气体均等地分散至载置台的周围并排气。为单片的处理装置,系具备处理容器42,其系于底部具有排气口50而可抽真空;载置台44,其系为了载置被处理体W而设置于处理容器内;压力控制阀88,其系连结至排气口,且可藉由滑动式的阀体94来改变阀口98的开口区域的面积;及排气系统90,其系连接至压力控制阀;在特定的过程压力下对于被处理体施加特定的处理;以前述载置台的中心轴能够位于藉由压力控制阀的阀开度的实用区域而形成的开口区域内之方式,使压力控制阀偏心而设置。 | ||
申请公布号 | TW200805491 | 申请公布日期 | 2008.01.16 |
申请号 | TW096107651 | 申请日期 | 2007.03.06 |
申请人 | 东京威力科创股份有限公司 | 发明人 | 野泽俊久;汤浅珠树 |
分类号 | H01L21/31(2006.01);C23C16/44(2006.01) | 主分类号 | H01L21/31(2006.01) |
代理机构 | 代理人 | 林志刚 | |
主权项 | |||
地址 | 日本 |